• 제목/요약/키워드: $CH_4/N_2$

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Outer Charge Transfer Complex가 Inner Complex로의 변환에 따른 속도론적 연구 (Kinetics for the Transformation of Outer Charge Transfer Complex to Inner Complex)

  • 권오윤;백우현;김응렬
    • 대한화학회지
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    • 제35권4호
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    • pp.343-349
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    • 1991
  • CHCl$_3$, CHCl$_3$ : CH$_2$Cl$_2$(1:1) 및 CH$_2$Cl$_2$ 용매 중에서 치환 aniline[aniline, N,N-dimethylaniline(N,N-DMA), 2,6-dimethylaniline(2,6-DMA) 및 2,4,6-trimethylaniline(2,4,6-TMA)]과 iodine간의 charge transfer complex 형성에 대하여 전도도법을 이용하여 속도론적으로 조사하였다. 초기에 일시적으로 생성된 outer charge transfer complex가 inner complex로 변환되는 과정에 있어서 치환 aniline의 electron donor 및 polar medium으로서의 작용에 대하여 고찰해 보았다. 또한 변환의 빠르기는 medium의 dielectric environment와 치환 aniline의 pK$_a$값에 의존하였으며 2,4,6-TMA, 2,6-DMA, aniline, N,N-DMA의 순서로 증가하였다. Chloroform 용매 중에서 2.5M 농도의 치환 aniline에 대해서 얻은 ${\Delta}H^{\neq}$값은 N,N-DMA, 3.47kcal/mol:aniline, 4.25kcal/mol:2,6-DMA, 7.79kcal/mol:2,4,6-TMA, 7.96kcal/mol:${\Delta}S^{\neq}$값은 모든 aniline에 있어서 -41~-55cal/mol${\cdot}$K의 큰 음의 값을 나타내었다.

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$CH_4+CO_2$ System과 $CH_4+CO_2+N_2$ System의 Hydrate Kinetic 비교 연구 (Study on Hydrate Kinetic of $CH_4+CO_2$ and $CH_4+CO_2+N_2$ System)

  • 신형준;문동현;한규원;이재정;이주호;윤지호;이강우
    • 한국신재생에너지학회:학술대회논문집
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    • 한국신재생에너지학회 2010년도 춘계학술대회 초록집
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    • pp.219.1-219.1
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    • 2010
  • 매립지에서 유기물의 분해로 발생되는 매립가스는 악취 등으로 인한 대기오염뿐만 아니라 온난화지수가 21인 메탄이 약 50vol% 포함되어 있어 지구온난화에 큰 영향을 미친다. 하지만 매립가스를 에너지원으로 활용하면 대기오염저감, 지구온난화 감소, 대체에너지원 확보뿐만 아니라 CDM사업 등과 연계하여 부가수익창출이 가능하다. 현재 국내에는 약 242개의 폐기물매립지가 있는데, 이중 매립가스를 활용하는 곳은 단지 14개소로 개별 경제성이 있는 대형매립지에서만 자원화시설을 설치하여 운영 중이며 그 외 매립지에서는 매립가스를 소각 또는 단순 대기 방출하여 대기오염유발과 동시에 대체에너지원 미활용으로 국가차원에서 큰 손실이므로 이를 활용할 수 있는 기술개발이 시급하다. 본 연구에서는 중소규모 매립지에서 발생하는 매립가스를 중심적환장으로 이송하여 경제성을 가지는 에너지원으로 활용할 수 있는 기술개발을 목표로 하이드레이트 기술을 접목한 기초연구를 수행하였다. 매립지에서 매립가스가 생성되는 과정에 표층부의 균열 및 차수막의 손상과 포집하는 공정에서 블로워 등의 사용으로 질소가 다량 포함되며 질소의 경우 상당히 높은 압력과 낮은 온도에서 하이드레이트를 형성하므로, 매립가스 하이드레이트 형성시 질소의 영향에 대해 알아보았다. $CH_4+CO_2$ System과 $CH_4+O_2+N$ System에 대하여 각각의 실험조건에서 Kinetic을 측정하였으며, 실험전후의 가스 조성을 Gas Chromatography로 정성, 정량 분석하였다. 실험결과 매립가스에 공기가 유입될 경우, 질소의 영향으로 하이드레이트 생성조건이 가압되었고 하이드레이트 내 메탄의 함량비율이 줄어들었다.

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RapidEye 영상을 활용한 대형산불피해지의 온실가스 배출량 추정 (Estimation on Greenhouse Gases(GHGs) Emission of Large Forest Fire Area in 2013)

  • 원명수;김유승;김경하
    • 한국지리정보학회지
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    • 제17권3호
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    • pp.54-67
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    • 2014
  • 본 연구는 RapidEye 영상을 활용하여 2013년 발생한 대형산불 피해지역(울주, 포항, 봉화)을 대상으로 온실가스 배출량 추정하였다. 온실가스 배출량 추정은 2006 IPCC(Intergovernmental Panel on Climate Change) 가이드라인에서 제시하는 추정식을 이용하였다. 본 연구에서는 최대 우도법을 기반으로 한 감독분류를 실시하여, 산불피해지역의 강도등급 및 피해면적을 산출하였으며, 현장정보와 비교하여 정확도 검증을 실시하였다. 산불피해 등급별 정확도 평가 결과는 평균적으로 전체정확도 73.93%과 Kappa 계수 0.67로 나타났다. 2013년 대형산불피해지의 온실가스 배출량 추정은 울주지역 $CO_2$ 63,260, CO 5.207, $CH_4$ 360, $N_2O$ 28.0, $NO_x$ $4.4g/kg^{-1}{\cdot}ha^{-1}$, 포항지역 $CO_2$ 28,675, CO 2.359, $CH_4$ 163, $N_2O$ 12.7, $NO_x$ $1.9g/kg^{-1}{\cdot}ha^{-1}$ 그리고 봉화지역 $CO_2$ 53,086, CO 1,655, $CH_4$ 114, $N_2O$ 23.5, $NO_x$ $3.6g/kg^{-1}{\cdot}ha^{-1}$로 나타났다.

가축(家畜) 분뇨(糞尿) 발효시(醱酵時) 악취(惡臭)가스 생성억제제(生成抑制劑) 시용(施用) 효과에 관(關)한 연구(硏究) (Effects of Physico-chemical and Microbiological Inhibitors for Odour gas Evolution in the Fermentation of Liverstock Feces)

  • 윤세영;이상규
    • 한국토양비료학회지
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    • 제25권1호
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    • pp.62-69
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    • 1992
  • 계분(鷄糞), 우분(牛糞), 돈분(豚糞)등의 가축분뇨(家畜糞尿)가 발효(醱酵)시 발생(發生)되는 악취(惡臭)가스에 대한 이화학적(理化學的), 생물학적(生物學的) 억제효과 및 시판(市販) 악취억제제(惡臭抑制劑)의 시용효과에 대한 실내시험결과(室內試驗結果)를 요약(要約)하면 다음과 같다. 1. 항온기간중(恒溫期間中) 각종(各種)가스의 경시적(輕時的) 발생량(發生量)은 항온(恒溫) 7일경 가장높은 발생량(發生量)을 보였으며 그후는 점차 감소(減少)되었다. 2. 혐기적발효(嫌氣的醱酵)에 의한 가스의 총발생량(總發生量)은 이산화탄소(二酸化炭素)($CO_2$)>아산화질소(亞酸化窒素)($N_2O$)>메-탄($CH_4$)>암모니아($NH_3$)>황화수소(黃化水素)($H_2S$)의 순(順)으로 많았다. 3. 가축분(家畜糞) 종류별(種類別) 가스 생성량(生成量)을 보면 계분(鷄糞)에서 메-탄, 돈분(豚糞)에서 이산화탄소(二酸化炭素) 및 아산화질소(亞酸化窒素), 그리고 우분(牛糞)에서 황화수소(黃化水素)가스의 발생량(發生量)이 많았다. 4. 각종(各種)가스 발생량간(發生量間)의 상관관계(相關關係)를 보면 $NH_3$$CH_4$, $CO_2$$CH_4$, $N_2O$$CH_4$는 부상관관계(負相關關係)를 보였고 $CO_2$$N_2O$, $CO_2$$NH_3$$NH_3$$N_2O$ 간(間)에는 정상관관계(正相關關係)를 보였다. 5. 농가(農家)에 유통(流通)되는 악취(惡臭) 억제제(抑制劑)인 VK88은 암모니아의 발생(發生)을 오히려 증가(增加)시켰으며 황화수소(黃化水素) 발생(發生)을 억제(抑制)시키는 효과가 있었으나 현저(顯著)한 효과는 아니었으며 VK88은 Vermiculite와 유사(類似)한 결과(結果)를 보였다. 6. 자연계(自然界)의 논토양(土壤)과 광합성세균(光合成細菌)의 첨가(添加)는 암모니아, 아산화질소(亞酸化窒素)및 황화수소(黃化水素)의 발생억제(發生抑制) 효과가 뚜렷하였다.

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Field emission from hydrogen-free DLC

  • Suk Jae chung;Han, Eun-Jung;Lim, Sung-Hoon;Jin Jang
    • Journal of Korean Vacuum Science & Technology
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    • 제3권1호
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    • pp.49-53
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    • 1999
  • We have studied the field emission characteristics of diamond-like-carbon (DLC) films deposited by a layer-by-layer technique using plasma enhanced chemical vapor deposition, in which the deposition of a thin layer of DLC and a CH4 plasma exposure on its surface were carried out alternatively. The hydrogen-free DLC can be deposited by CH4 plasma exposure for 140 sec on a 5 nm DLC layer. N2 gas-phase doping in the CH4 plasma was also carried out to reduce the work function of the DLC. The optimum [N2]/[CH4] flow rate ratio was found to be 9% for the efficient electron emission, at which the onset-field was 7.2 V/$\mu\textrm{m}$. It was found that the hydrogen-free DLC has a stable electron emitting property.

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DRY ETCHING CHARACTERISTICS OF INGAN USING INDUCTIVELY COUPLED $Cl_2/CHF_3,{\;}Cl_2/CH_4$ AND Cl_2/Ar PLASMAS.

  • Lee, D.H.;Kim, H.S.;G.Y. Yeom;Lee, J.W.;Kim, T.I.
    • 한국표면공학회:학술대회논문집
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    • 한국표면공학회 1999년도 추계학술발표회 초록집
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    • pp.59-59
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    • 1999
  • In this study, planer inductively coupled $Cl_2$ based plasmas were used to etch InGaN and the effects of plasma conditions on the InGaN etch properties have been characterized using quadrupole mass spectrometry(QMS) and optical emission spectroscopy(OES). As process conditions used to study the effects of plasma characteristics on the InGaN etch properties, $Cl_2$ was used as the main etch gas and $CHF_3,{\;}CH_4$, and Ar were used as additive gases. Operational pressure was varied from SmTorr to 3OmTorr, inductive power and bias voltage were varied from 400W to 800W and -50V to -250V, respectively while the substrate temperature was fixed at 50 centigrade. For the $Cl_2$ plasmas, selective etching of GaN to InGaN was obtained regardless of plasma conditions. The small addition of $CHF_3$ or Ar to $Cl_2$ and the decrease of pressure generally increased InGaN etch rates. The selective etching of InGaN to GaN could be obtained by the reduction of pressure to l5mTorr in $CI_2/IO%CHF_3{\;}or{\;}CI_2/IO%Ar$ plasma. The enhancement of InGaN etch rates was related to the ion bombardment for $CI_2/Ar$ plasmas and the formation of $CH_x$ radicals for $CI_2/CHF_3(CH_4)$ plasmas.

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폴리이미드-실리카 하이브리드막의 제조와 기체투과특성 (Preparation and Gas Permeation Properties of Polyimide-Silica Hybric Memberanes)

  • 염승호;정용수;이우태;김선일;김진환
    • 멤브레인
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    • 제11권3호
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    • pp.116-123
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    • 2001
  • Polyimide-silica 하이브리드막을 제조하고 silica 함량이 막의 구조적 특성과 기체의 투과특성에 미치는 영향을 연구하였다. 하이브리드막은 N,N`-dimethyl acetamide(DMAc) 용매 속에서 1,2,4,5-benzenetetracarboxylicdianhydride(PMDA)와 4,4`-diaminodiphenyl oxide(ODA) 및 tetraethyoxysilane(TEOS)를 출발물질로 하여 졸-겔 공정으로 제조하였다. 제조한 막은 FT-IR, EDX, TGA 및 SEM에 의하여 구조적 특성을 분석하고, $25^{\circ}C$에서 ${N_2}, {O_2}, {H_2}, {CO_2}${CH_4}$ 기체에 대한 투과특성을 조사하였다. 하이브리드막은 높은 열적 안정성을 나타내었으며, polymide matrix에 silica입자가 균일하게 분포되어 있었고 silica 함량이 증가할수록 silica 입자의 크기가 증가하였다. 기체의 투과도계수는 silica 함량이 증가할수록 증가하였으나, 확산계수는 silica 함량에 무관하게 거의 일정하였다. 따라서 하이브리드막에 의한 투과도계수의 증가는 용해도계수가 증가하기 때문으로 생각되었다. 이들 기체에 대한 투과도계사구 증가함에도 불구하고, ${H_2}/{N_2}, ${H_2}/{O_2}${H_2}/{CO_2}의 선택도가 증가하였다.

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$Si_3N_4-TiC$ Ceramic 공구에 화학증착된 TiC, TiN 및 Ti(C, N)에 관한 연구 (A Study on the Chemically Vapor Deposited TiC, TiN, and TiC(C, N) on $Si_3N_4$-TiC Ceramic Tools.)

  • 김동원;김시범;이준근;천성순
    • Tribology and Lubricants
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    • 제4권2호
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    • pp.36-43
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    • 1988
  • Titanium carbide(TiC) and titanium nitride(TiN) flims were deposited on $Si_3N_4$-TiC composite cutting tools by chemical vapor deposition(CVD) using $TiCl_4-CH_4-H_2$ and $TiCl_4-H_2-N_2$ gas mixtures, respectively. The nonmetal to metal ratio of deposit increases with increasing $m_{C/Ti}$(mole ratio of CH$_4$ to TiCl$_4$ in the input) for TiC coatings and $m_{N/Ti}$(mole ratio of N$_2$ to TiCl$_4$ in the input) for TiN coatings. The nearly stoiahiometric films could be obtained under the deposition condition of $m_{C/Ti}$ between 1.15 and 1.61 for TiC, and that of $m_{N/Ti}$ between 25 and 28 for TiN. Also maximum microhardness of the coatings can be obtained in these ranges. The interfacial region of TiC coatings on $Si_3N_4$-TiC ceramics is wider than that of TiN coatings according to Auger depth profile analysis, which indicates good interfacial bonding for TiC. Experimental results show that TiC coatings have an randomly equiaxed structure and Columnar structure with(220) preferred orientation can be obtained for TiN coatings. And, multilayer coatings have a dense and equiaxed structure.

혐기(嫌氣) 및 호기조건하(好氣條件下)에서 토양처리(土壤處理)된 돈분(豚糞) 중(中) 질소형태변화(窒素形態變化) (Transformation of Nitrogen Derived from Solid Piggery Manure in Soil under Aerobic or Anaerobic Incubation Condition)

  • 윤순강;정광용;유순호
    • 한국토양비료학회지
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    • 제26권2호
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    • pp.121-126
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    • 1993
  • 혐기(嫌氣) 및 호기(好氣)조건하에서 토양(土壤)에 처리(處理)된 돈분(豚糞) 중 질소행동(窒素行動)에 관한 기초자료(基礎資料)를 얻고자 사양토(砂壤土)에 생돈분(生豚糞) 및 발효돈분(醱酵豚糞)을 2:1로 혼합하고 혐기(嫌氣) 및 호기조건하(好氣條件下)에서 8주간(週間) 항온(恒溫)($30^+/-1^{\circ}C$) 하면서 토양(土壤)과 돈분(豚糞) 혼합물(混合物)의 pH 변화와 $CH_4$ 발생량(發生量) 그리고 무기태질소(無機態窒素) 농도(濃度)변화를 조사(調査)하였다. 토양(土壤)에 생돈분(生豚糞)처리시 혐기조건(嫌氣條件)에서의 pH가 호기조건(好氣條件)에서 보다 1.87 단위(單位) 낮아졌고 발효돈분(醱酵豚糞) 처리에서는 혐기(嫌氣), 호기조건(好氣條件) 간에 pH 차이가 적었다. 혐기(嫌氣)조건에서 항온기간(恒溫期間) 경과에 따른 pH 감소(減少) 회귀식(回歸式)(P<0.01)으로 부터 얻어진 회귀계수(回歸係數)는 생돈분(生豚糞)에서 -0.114, 발효(醱酵)돈분에서 -0.08로 발효돈분(醱酵豚糞)에 비하여 생돈분(生豚糞)에서 pH 감소율(減少率)이 컸다. 생돈분(生豚糞), 발효돈분(醱酵豚糞)을 토양에 처리시 혐기(嫌氣)조건에서 $CH_4$ 발생량은 항온(恒溫) 3주(週)까지는 두처리 간에 차이가 없었으나 3주(週) 이후에는 생돈분(生豚糞)에서의 $CH_4$ 발생량이 현저히 증가되었으며 8주(週) 까지의 누적(累積) $CH_4$ 발생량은 발효돈분(醱酵豚糞)에 비하여 3.2배(倍) 증가되었다. 항온(恒溫) 3주(週)부터 8주(週)까지 일당(日當) $CH_4$ 발생량은 생돈분(生豚糞)에서 0.211 mole/g, 발효돈분(醱酵豚糞)에서 0.046 mole/g였다. 호기조건(好氣條件)에서 생돈분(生豚糞)처리시 $NH_4-N$ 농도는 항온기간(恒溫期間)이 경과(經過)됨에 따라 점차 감소(減少)되었으며 $NO_3-N$ 농도는 초기(初期)에 11.2 ppm에서 8주(週) 후(後)에 67ppm으로 6배(倍) 증가되었는데 이러한 결과는 호기(好氣)조건의 발효돈분(醱酵豚糞)에서도 유사(類似)한 경향이었다. 그러나 혐기(嫌氣)조건에서는 항온기간별(恒溫期間別) $NH_4-N$ 농도가 급격(急激)히 증가되었으나 $NO_3-N$ 농도는 4~8ppm으로 호기조건(好氣條件)에 비하여 매우 낮았다.

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Chiral [Iminophosphoranyl]ferrocenes: Synthesis, Coordination Chemistry, and Catalytic Application

  • Co, Thanh Thien;Shim, Sang-Chul;Cho, Chan-Sik;Kim, Dong-Uk;Kim, Tae-Jeong
    • Bulletin of the Korean Chemical Society
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    • 제26권9호
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    • pp.1359-1365
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    • 2005
  • A series of new chiral [iminophosphoranyl]ferrocenes, {${\eta}^5-C_5H_4-(PPh_2=N-2,6-R_2-C_6H_3)$}Fe{${\eta}^5-C_5H_3-1-PPh^2-2-CH(Me)NMe_2$} (1: R = Me, $^iPr$), {${\eta}^5{-C_5H_4-(PPh_2=N-2,6-R_2}^1-C_6H_3)$}Fe{${\eta}^5-C_5H_3-1-(PPh_2=N-2,6-R_2-C_6H_3)-2-CH(Me)R_2$} (2: $R^1\;=\;Me,\;^iPr;\;R^2\;=\;NMe_2$, OMe), and $({\eta}^5-C_5H_5)Fe${${\eta}^5-C_5H_4-1-PR_2-2-CH(Me)N=PPh_3$} (3:R = Ph, $C_6H_{11}$) have been prepared from the reaction of [1,1'-diphenylphosphino-2-(N,N-dimethylamino) ethyl]ferrocene with arylazides (1 & 2) and the reaction of phosphine dichlorides ($R_3PCl_{2}$) with [1,1'-diphenylphosphino-2-aminoethyl]ferrocene (3), respectively. They form palladium complexes of the type $[Pd(C_3H_5)(L)]BF_4$ (4-6: L = 1-3), where the ligand (L) adopts an ${\eta}^2-N,N\;(2)\;or\;{\eta}^2$-P,N (3) as expected. In the case of 1, a potential terdentate, an ${\eta}^2$-P,N mode is realized with the exclusion of the –=NAr group from the coordination sphere. Complexes 4-6 were employed as catalysts for allylic alkylation of 1,3-diphenylallyl acetate leading to an almost stoichiometric product yield with modest enantiomeric excess (up to 74% ee). Rh(I)-complexes incorporating 1-3 were also prepared in situ for allylic alkylation of cinnamyl acetate as a probe for both regio- and enantioselectivities of the reaction. The reaction exhibited high regiocontrol in favor of a linear achiral isomer regardless of the ligand employed.