1 |
J. S. Im, H. J. Kim, M. O. Thompson, Appl. Phys. Lett., 63 (1993) 2969.
|
2 |
A. T. Voutsas, M. K. Hatalis, J. Electrochem. Soc., 139 (1992) 2659.
DOI
|
3 |
S.-W. Lee, S.-K. Joo, IEEE Electron Dev. Lett., 17 (1996) 160.
DOI
ScienceOn
|
4 |
S.-I Jun, Y.-H. Yang, J.-B. Lee, D.-K. Choi, Appl. Phys. Lett., 75 (1999) 2235.
DOI
|
5 |
J. Jang, J. Y. Oh, S. K. Kim, Y. J. Choi, S. Y. Yoon, C. O. Kim, Nature, 395 (1998) 481.
DOI
ScienceOn
|
6 |
S. Y. Yoon, J. Y. Oh, C. O. Kim, J. Jang, J. Appl. Phys., 84 (1998) 6463.
DOI
|
7 |
T. Sameshima, K. Ozaki, N. Andoh, Appl. Phys., A 71 (2000) 1.
DOI
ScienceOn
|
8 |
T. Sameshima, N. Andoh, H. Takahashi, J. Appl. Phys., 89 (2001) 5362.
DOI
|
9 |
J.-S. Ro, W.-E. Hong, SID Digest of Technical Papers (2006) 1280.
|
10 |
Samsung Corning Precision Glass Inc., www.samsungscp.co.kr.
|
11 |
I.-W. Wu, A. Chiang, M. Fuse, L. Ovecoglu, T. Y. Huang, J. Apply. Phys., 65 (1989) 4036.
DOI
|
12 |
W.-E. Hong, J.-S. Ro, J. Appl. Phys., 114 (2013) 073511.
DOI
|
13 |
T. Sameshima, Y. Kaneko, N. Andoh, Appl. Phys., A 73 (2001) 419.
DOI
ScienceOn
|
14 |
R. S. Wagner, W. C. Ellis, Appl. Phys. Lett., 4 (1964) 89.
DOI
|