1 |
J. J. Kim, S.-K. Kim, C. H. Lee, Y. S. Kim, J. Vac. Sci. Technol., B 21 (2003) 33
|
2 |
G. Oskam, P. M. Vereeken, P. C. Searson, J. Electrochem. Soc., 146 (1999) 1436
DOI
ScienceOn
|
3 |
T. P. Moffat, J. E. Bonevich, W. H. Huber, A. Staishevsky, D. R. Kelly, G. R. Stafford, D. Josell, J. Electrochem. Soc., 147 (2000) 4524
DOI
ScienceOn
|
4 |
S. P. Muraka, Mater. Sci. Eng., R19 (3-4) (1997) 87
|
5 |
M. Hasegawa, Y. Okinaka, Yosi Shacham-Diamand, T. Osaka, Electrochem. Solid-State Lett., 9, (2006) C138-C140
DOI
ScienceOn
|
6 |
J. H. Huang, Y.-S. Lai, S. J. S. Chen, J. Electrochem. Soc., 148 (2001) F133
DOI
ScienceOn
|
7 |
K. Weiss, S. Riedel, S. E. Schulz, M. Schwerd, H. Helneder, H. Wendt, T. Gessner, Microelectron. Eng., 50 (2000) 433
DOI
ScienceOn
|
8 |
T. Hara, S. Kamijima, Y. Shimura, Electrochem. Solid-State Lett., 6 (2003) C8
DOI
ScienceOn
|
9 |
T. Osaka, N. Takano, T. Kurokawa, T. Kaneko, K. Ueno, J. Electrochem. Soc., 149 (2002) 573
DOI
ScienceOn
|
10 |
M. Hasegawa, N. Yamachika, Yosi Shacham- Diamand, Y. Okinaka, T. Osaka, Appl. Phys. Lett., 90, 10, (2007) 101916
DOI
ScienceOn
|
11 |
S. Ezhilvalavn, T.-Y. Tseng, Mater. Chem. Phys., 65 (2000) 227
DOI
ScienceOn
|
12 |
T. Aoyama, M. Kiyotoshi, S. Yamakim, K. Eguchi, Jpn. J. Appl. Phys. Part 1, 38 (1999) 2194
DOI
|
13 |
M. Yoshino, Y. Nonaka, J. Sasano, I. Matsuda, Y. Shacham-Diamand, T. Osaka, Electrochim. Acta, 51 (2005) 916
DOI
ScienceOn
|
14 |
I. Koiwa, M. Usada, T. Osaka, J. Electrochem. Soc., 135 (1998) 1222
DOI
ScienceOn
|
15 |
S.-K. Kim, S. K. Cho, J. J. Kim, Y.-S. Lee, Electrochem. Solid-State Lett., 8 (2005) C19
DOI
ScienceOn
|