1 |
Y. Sctuhara, T. Shoji, A. Ebe, S. Baba, N. Yamamoto, K. Takahashi, K. Ono, S. Miyake, Surface and Coating Technology, 174-175 (2003) 33-39
DOI
|
2 |
J. Holland, M. Barnes, A. Demos, T. Ni, P, Shufflebotham, W. Yao, SID Sym. Digest, 27 (1996) 526
|
3 |
J. H. Kim, H. J. Lee, Y. T. Kim, J. H. Joo, K. W. Whang, J. Vac. Sci. Technol., A 15 (1997) 564
DOI
ScienceOn
|
4 |
T. Meziani, P. Colpo, F. Rossi, Plasma Sources Sci Technol., 10 (2001) 276
DOI
ScienceOn
|
5 |
H. Takei. H. Kawamura, Y. Ohta, R. Gardner, SID 98 Digest, 1102 (1998)
|
6 |
J. Schmitt, M. Elyaakoubi, L. Sansonnens, Plasma Sources Sci. Technol., 11 (2002) A206
DOI
ScienceOn
|
7 |
K. N. Leung, G. R. Taylor, J. M. Barrie. S. L. Paul, R. E. Kribel, Physics Lett., 57A (1976) 145
|
8 |
R. B. Piejak, V. A. Gody, B. M. Alexandrovich. Plasma Sources Sci. Technol., 1 (1992) 179
DOI
ScienceOn
|
9 |
F. Heinrich, U. Banzlger, A . Jentzsch, G. Neumann, C. Huth, J. Vac. Sci. Technol., B 14 (1996) 2000
DOI
|
10 |
Z. Yu, D. Shaw, P. Gonzales, G. J. Collins, J. Vac. Sci. Technol., A 13 (1995) 503
DOI
ScienceOn
|