1 |
T. TeraShige, K. Okano, IEEE Trans. Electron Dev., 46 (1999) 642
|
2 |
A. Ishizaka, Y. Shiraka, J. Electrochem. Soc., 133 (1986) 666
DOI
ScienceOn
|
3 |
N. Herin, M. Lefehvere, M. Pealat, J. Perrin, J. Phys. Lett., 31 (1992) L379
|
4 |
Marius D. Stanate, Appl. Surf. Science 172 (2001) 4750
|
5 |
S. Nahano, Y. Kishi, M. Ohnishi, S. Tsuda, Shibuya H., N. NaKamura, Y. Hishikawa, H. Tami, T. Takahawa, Y. Kuwano, Mat. Res. Soc. Symp. Proc., 49 (1992) 4757
|
6 |
Y. Hamakawa, Y. Matsumoto, G. HIrata, Mat. Res. Soc. Symp. Proc., 164 (1989) 291
|
7 |
J. W. Yang, D. H. Rho, J. K. Yun, J. S. Kim, J. Kor. Inst. Surf. Eng., 36 (2003) 141
|
8 |
M. T. Kim, J. Lee, Thin Solid Films, 303 (1997) 173
DOI
ScienceOn
|
9 |
F. Yan, Y. D. Zhang, P. Chen, L. Sun, S. L. Gu, Optical Mat., 23 (2003) 113
DOI
ScienceOn
|
10 |
Y. Y. Xu, T. Muramatsu, T. Aoki, Y. Hatanaka, Mat. Res. Soc. Symp. Proc., 544 (1999) 185
|
11 |
A. M. Wrobel, S. Wickramanayaka, Y. Nakanishi, Y. Fukuba, Y. Hatanaka, Chem. Mater, 7 (1995) 1403
DOI
ScienceOn
|
12 |
A. M. Wrobel, S. Wickranmanayaka, K. Kitamura, Y. Nakamishi, Y. Hatanaka, Chem. Vap. Deposition, 6 (2000) 315
DOI
|
13 |
A. M. Haghri-Gosnet, J. Vac. Sci. Technol., 4 (1990) 1565
|
14 |
A. L. Smith, Analysis of Silicones Wiley, New York, 1974 Neuauflage, Krieger Malabar 1983
|
15 |
D. F. Helm, E. Mack, J. Am. Chem. Soc., 59 (1937) ,6017
|
16 |
K. J. Sladek, J. Electrochem. Soc., 118 (1971) 654
DOI
|
17 |
K. Takahashi, S. Nishino, J. Saraie, J. Electrochem. Soc., 139 (1992) 3565
DOI
|
18 |
P. A. Ivanov, V. E. Chelo, Semicond. Sci. Technol., 7 (1992) 863
DOI
ScienceOn
|
19 |
S. Veinteemnillas, V. Madigou, R. RodriguezClenente, A. Figueras, J. Cryst. Growth, 148 (1995) 383
DOI
ScienceOn
|
20 |
Y. Avigal, M. Schieber, R. Levin, J. Cryst. Growth. 24 (1974) 188
DOI
ScienceOn
|
21 |
H. Zhang, Z. Xu, Optical Mat., 20 (2002) 177
DOI
ScienceOn
|
22 |
D. A. Anderson, W. E. Spear, Philos. Mag., 35 (1976) 1
DOI
ScienceOn
|