Studies on Structure and Optical Characteristics of TiO-N Thin Film Manufactured by DC Reactive Magnetron Sputtering Method
![]() |
Park Jang Sick
(미래엔지니어링)
Park Sang Won (계명대학교 환경공학부) Kim Tae Woo (미래엔지니어링) Kim Sung Kuk (계명대학교 환경공학부) Ahn Won Sool (계명대학교 공과대학) |
1 | I. J. M. Bennett et al., Appl. Opt., 28 (1989) 3303 |
2 | A. J. Perry, H. K. Pulker, Thin Solid Films, 124 (1985) 323 |
3 | R. Asahi, T. Morikawa, T. Ohwaki, K. Aoki, Y. Taga, Science, 293 (2001) 269 |
4 | Y. Taga, Materials Integration, 16 (2003) 34 |
5 | M. H. Suhail, G. Mohan Rao, S. Mohan, J. Appl. Phys., 71 (1992) 1421 DOI |
6 | W. T. Pawlewicz, R. Busch, Thin Solid Films, 63 (1979) 251 |
7 | M. J. Jung, K. H. Nam, Y. M. Chung, J. H. Boo, J. G. Han, Surface and Coating Technology, 171 (2003) 71 |
8 | A. L. Linsevigler, G. Q. Lu, J. T. Yates, Chern. Rev., 95 (1995) 735 DOI ScienceOn |
9 | S. Takeda, S. Suzuke, H. Odaka, H. Hosono, Thin Solid Film, 392 (2001) 338 |
10 | P. Zeman, S. Takabayashi, J. Vac. Sci. Technol., A20 (2002) 388 |
11 | J. L. Vossen, J. J. Cuomo in Thin Film Process, edited by Vossen and Kern (Academic, New York, (1978), p. 42 |
12 | S. Schiller, G. Beister, W. Sieber, Thin Solid Films, 38 (1976) 271 |
13 | J. Heller, Thin Solid Films, 17 (1973) 163 |
14 | H. Tang, K. Prasad, R. Sanjines, P. E. Schmid, F. Levy, J Appl. Phys., 75 (1994) 2042 |
15 | G. W. Kang, Y. H. Lee, J. C. Kwak, D. G. Lee, B. K. Jung, S. H. Park, B. H. Choi, Kor. J. Mater. Res., 12 (2002) 452 DOI |
16 | N. C. Saha, H. G. Tompkins, J. Appl. Phys., 72 (1992) 3072 DOI |
17 | K. Bange, C. R. Ottermann, O. Anderson, V. Jeschkowski, Thin Solid Films, 197 (1991) 279 DOI ScienceOn |
18 | Y. L. Choi, S. H. Kim, G. H. Lee, Kor. J. Mater. Res., 11 (2001) 75 |
19 | K. H. Ro, W. Park, G. Choe, J. C. Ahn, Kor, J. Mater. Res., 7 (1997) 21 |
20 | K. L. Hadjiivanov, D. K. Klissurski Chern. Soc. Rev., 25 (1995) 61 |
21 | S. Schiller, G. Beister, S. Schneider, W. Sieber, Thin Solid Films, 72 (1980) 475 |
22 | G. Mohan Rao, S. Mohan, J. Appl. Phys., 69 (1991) 6652 |
![]() |