1 |
L. Liu, S. Ma, H. Wu, B. Zhu, H. Yang, J. Tang and X. Zhao : Mater. Lett., 149 (2015) 43.
DOI
|
2 |
C. Ke, W. Zhu, J. S. Pan and Z. Yang : Curr. Appl. Phys., 11 (2011) 306.
DOI
|
3 |
A. H. Ali, A. Shuhaimi and Z. Hassan : Appl. Surf. Sci., 288 (2014) 599.
DOI
|
4 |
Y. J. Jo, C. H. Hong and J. S. Kwak : Curr. Appl. Phys., 11 (2011) 143.
|
5 |
Y. Kim, S. Heo, H. Lee, Y. Lee and D. Kim : Appl. Surf. Sci., 258 (2012) 3903.
DOI
|
6 |
G. Haacke : J. Appl. Phys., 47 (1976) 4086.
DOI
|
7 |
H. J. Moon and D. Kim : J. Korean. Soc. Heat Treat., 29 (2016) 62.
DOI
|
8 |
H. Koseoglu, F. Turkoglu, M. Kurt, M. D. Yaman, F. G. Akca, G. Aygun, and L. Ozyuzer : Vacuum 120 (2015) 8.
DOI
|
9 |
Y. Uno, A. Okada, K. Uemura, P. Raharjo, T. Furukawa, K. Karato, Precision Eng., 29 (2005) 449.
DOI
|