1 |
H. J. Lee, M. -Y. Ryu, and J. S. Kim, J. Korean Vaccum Soc. 18, 474 (2009).
DOI
ScienceOn
|
2 |
N. K. Cho, S. P. Ryu, J. D. Song, W. J. Choi, and J. I. Lee, Appl. Phys. Lett. 88, 133104 (2006).
DOI
ScienceOn
|
3 |
V. D. Dasika, J. D. Song, W. J. Choi, N. K. Cho, J. I. Lee, and R. S. Goldman, Appl. Phys. Lett. 95, 163114 (2009).
DOI
ScienceOn
|
4 |
B. Jo, C. -R. Lee, J. S. Kim, K. Pyun, S. K. Noh, J. S. Kim, J. -Y. Leem, and M. -Y. Ryu, J. Korean Phys. Soc. 60, 460 (2012).
DOI
ScienceOn
|
5 |
S. R. Kwon, M. -Y. Ryu, and J. D. Song, J. Korean Vacuum Soc. 21, 342 (2012).
DOI
ScienceOn
|
6 |
M. Asada, Y. Miyamoto, and Y. Suematsu, IEEE J. Quantum Electron. 22, 1915 (1986).
DOI
|
7 |
Y. Nakata, K. Mukai, M. Sugawara, K. Ohtsubo, H. Ishikawa, and N. Yokoyama, J. Crystal Growth 208, 93 (2000).
DOI
ScienceOn
|
8 |
A. D. Stiff, S. Krishna, P. Bhattacharya, and S. Kennerly, Appl. Phys. Lett. 79, 421 (2001).
DOI
ScienceOn
|
9 |
A. Fiore, U. Oeserle, R. P. Stanlye, and M. Ilegems, IEEE Photon. Technol. Lett. 12, 1601 (2000).
DOI
ScienceOn
|
10 |
D. Zhou, P. E. Vullum, G. Sharma, S. F. Thomassen, R. Holmestad, T. W. Reenaas, and B. O. Fimland, Appl. Phys. Lett. 96, 083108 (2010).
DOI
ScienceOn
|
11 |
H. W. Shin, J. W. Choe, J. O. Kim, S. J. Lee, C. S. Kim, and S. K. Noh, J. Korean Vacuum Soc. 20, 35 (2011).
DOI
ScienceOn
|
12 |
D. Sreenivasan, J. E. M. Haverkort, T. J. Eijkemans, and R. Notzel, Appl. Phys. Lett. 90, 112109 (2007).
DOI
ScienceOn
|
13 |
S. Kim, D. K. Oh, P. W. Yu, J. -Y. Leem, J. I. Lee, and C. R. Lee, J. Crystal Growth 261, 38 (2004).
DOI
ScienceOn
|
14 |
L. M. Kong, J. F. Cai, Z. Y. Wu, Z. Gong, Z. C. Niu, and Z. C. Feng, Thin Solid Films 498, 188 (2006).
DOI
ScienceOn
|
15 |
J. S. Kim, C. -R. Lee, and S. U. Hong, J. Crystal Growth 305, 78 (2007).
DOI
ScienceOn
|
16 |
J. W. Oh, S. R. Kwon, M. -Y. Ryu, B. Jo, and J. S. Kim, J. Korean Vaccum Soc. 20, 442 (2011).
DOI
ScienceOn
|
17 |
H. Y. Kim, M. -Y. Ryu, and J. S. Kim, J. Lumine. 132, 1759 (2012).
DOI
ScienceOn
|
18 |
H. J. Lee, M. -Y. Ryu, and J. S. Kim, J. Appl. Phys. 108, 093521 (2010).
DOI
ScienceOn
|