1 |
H. Zhang, D. R. Yang, X. Y. Ma, Y. Y. Ji, J. Xu,and D. L. Que, Nanotechnology 15, 622 (2004).
DOI
|
2 |
Z. K. Li, X. T. Huang, J. P. Liu, and H. H. Ai,Mater. Lett. 62, 2507 (2008).
DOI
|
3 |
A. Rahma, G. W. Yang, M. Lorenza, T. Nobisa,J. Lenznera, G. Wagnerc, and M. Grundman, Thin Solid Films 486, 191 (2005).
DOI
|
4 |
X. Y. Kong, Y. Ding, R. Yang, and Z. L. Wang,Science 303, 1348-1351 (2004).
DOI
ScienceOn
|
5 |
Y. H. Jang, S. Y. Yang, Y. J. Jang, C. Park, J.K. Kim, and D. H. Kim, Chem-Eur. J. 17, 2068-2076 (2011).
DOI
|
6 |
D. Polsongkram, P. Chamninok, S. Pukird, L.Chow, O. Lupan, G. Chai, H. Khallaf, S. Park, andA. Schulte, Physica B 403, 3713 (2008).
DOI
|
7 |
F. Li, L. Hua, Z. Li, and X. T. Huang, J. Alloys Compd. 465, L14 (2008).
DOI
|
8 |
D. L. Zhu, H. Zhu, and Y. H. Zhang, J. Cryst. Growth 249, 172 (2003).
DOI
|
9 |
S. -J. Lee, S. K. Park, C. R. Park, J. Y. Lee, J.H. Park, and Y. R. Do, J. Phys. Chem. C 111,11793-11801 (2007).
DOI
|
10 |
X. W. Sun, J. L. Zhao, S. T. Tan, L. H. Tan, C.H. Tung, G. Q. Lo, D. L. Kwong, Y. W. Zhang,X. M. Li, and K. L. Teo, Appl. Phys. Lett. 92, 111113 (2008).
DOI
|
11 |
A. Teke, U. Ozgur, S. Dogan, X. Gu, H. Moron,B. Nemeth, J. Nause, and H. O. Everitt, Phys. Rev. B 70, 195207 (2004).
DOI
|
12 |
P. Jiang, J. J. Zhou, H. F. Fang, C. Y. Wang, Z.L. Wang, and S. S. Xie, Adv. Funct. Mater. 17,1303 (2007).
DOI
|
13 |
F. Li, Z. Li and F. J. Jin, Mater. Lett. 61, 1876(2007).
DOI
|
14 |
H. Cao, J. Y. Xu, D. Z. Zhang, S. H. Chang, S.T. Ho, E.W. Seelig, X. Liu, and R. P. H. Chang, Phys. Rev. Lett. 84, 5584 (2000).
DOI
|
15 |
Y. W. Zhu, H. Z. Zhang, X. C. Sun, S. Q. Feng,J. Xu, Q. Zhao, B. Xiang, R. M. Wang, and D.P. Yu, Appl. Phys. Lett. 83, 144 (2003).
DOI
|
16 |
K. Takanezawa, K. Hirota, Q. Wei, K. Tajima, andK. Hashimoto, J. Phys. Chem. C 111, 7218 (2007).
DOI
|