1 |
L. Kronik and Y. Shapira, Surface Science Reports 37, 1, (1999)
DOI
|
2 |
Y. P. Varshni, Physica 34, 149 (1967).
DOI
|
3 |
L. Pevesi, F. Piazze, A. Rudra, J. F. Carlin, and M. Hegema, Phys. Rev. B 44, 9052 (1991).
DOI
|
4 |
C. Mejia-Garcia, A. Caballero-Rosas, M. Lopez- Lopez, A. Winter, H. Pascher, and J. L. Lopez- Lopez, Thin Solid Films 518, 1825 (2010).
DOI
|
5 |
김정화, 조현준, 배인호, 한국진공학회지 19, 134 (2010).
과학기술학회마을
|
6 |
T. Prutskij, C. Pelosi, and R. A. Brito-Ort, Microelectronics Journal 36, 374 (2005).
DOI
|
7 |
P. Lautenschlager, M. Garriga, S. Logothetidis, and M. Cardona, Phys. Rev. B 35, 9174 (1987).
DOI
|
8 |
J. B. Lee, I. Kim, H. K. Kwon, and B. D. Choe, Appl. Phys. Lett. 62, 1620 (1993).
DOI
|
9 |
L. B. Chang, K. Y. Cheng, and C. C. Liu, Jpn. J. Appl. Phys. 27, 1145 (1988).
DOI
|
10 |
H. Kroemer, J. Vac. Sci. Techol. B1(2), 126 (1983).
|
11 |
S. L. Jang, Solid State Electronics 34, 373 (1991).
DOI
|
12 |
S. A Tabatabaei, A. A Iliadis, E. C. Colin, and E. C. Wood, J. Electronics Materials 24, 87 (1995).
DOI
|
13 |
G. Attolini, C. Bocchi, F. Germini, C. Pelosi, A. Parisini, L. Tarricone, R. Kùdela, and S. Hasenohrl, Materials Chemistry and Physics 66, 246 (2000).
DOI
|
14 |
X. Z. Shang, P. J. Niu, B. N. Mao, W. X. Wang, L. W. Guo, Q. Huang, and J. M. Zhou, Solid State Communications 138, 114 (2006).
DOI
|
15 |
M. Begotti, M. Longo, R. Magnanini, A. Parisini, L. Tarricone, C. Bocchi, F. Germini, L. Lazzarini, L. Nasi, and M. Geddo, Applied Surface Science 222, 423 (2004).
DOI
|
16 |
M. Murtagh, J. T. Beechinor, N. Cordero, P. V. Kelly, G. M. Crean, and S. W. Bland, Materials Science and Engineering B66, 185 (1999).
DOI
|
17 |
S. Datta, A. Bhattacharya, M. R. Gokhale, S. P. Pai, J. John, and B. M. Arora, Journal of Crystal Growth 241, 115 (2002).
DOI
|
18 |
J. S. Roberts, G. B. Scott, and J. P, Growers. J. Appl. Phys. 52, 4018 (1981).
DOI
|
19 |
J. Lagowski, W. Walukiewicz, M. M. G. Slusarczuk, and H. C. Gatos, J. Appl. Phys. 50, 5059 (1979).
DOI
|
20 |
유재인, 김도균, 김근형, 배인호, 김인수, 한병국, 한국진공학회 9, 116 (2000).
|
21 |
W. Liu, D. Jiang, and Y. Zhang, J. Appl. Phys. 77, 4564 (1995).
DOI
|