1 |
G. A. Smolenskii and I. Chupis, Sov. Phys. Usp. 25, 475 (1982).
DOI
|
2 |
H. M. Kim, K. H. lee, J. S. Ahn, and K. B. Lee, J. Korean Phys. Soc. 50(6), 1740 (2007).
DOI
|
3 |
J. R. Cheng and L. E. Cross, J. Appl. Phys. 94, 5188 (2003).
DOI
|
4 |
F. Z. Huang, X. M. Lu, W. W. Lin, X. M. Wu, Y. Kai, and J. S. Zhu, Appl. Phys. Lett. 89, 242914 (2006).
DOI
|
5 |
S. Yakovlev, J. Zekonyte, C. H. Solterbeck, and M. Es-Souni, Thin Solid Films. 493, 24 (2005).
DOI
|
6 |
S. Iakovlev, C. H. Solterbeck, M. Kuhnke, and M. Es-Souni, J. Appl. Phys. 97, 094901 (2005).
DOI
|
7 |
V. R. Palkar and R. Pinto, Pramana J. Phys. 58, 1003 (2002).
DOI
|
8 |
S. K. Singh, K. Maruyama, and H. Ishiwara, J. Appl. Phys. 100, 064102 (2006).
DOI
|
9 |
X. J. Meng, J. L. Sun, X. G. Wang, T. Lin, M. J. Ha, S. L. Guo, and J. H. Chu, Appl. Phys. Lett. 81, 4035 (2002).
DOI
|
10 |
J. Wang, J. B. Neaton, H. Zheng, V. Nagarajan S. B. Ogale, B. Liu, K Viehland, V. Vaithyanathan, D. G. Schlom, U. V. Waghmare, N. A. Spaldin, K. M. Rabe, M. Wutting, and R. Ramesh, Science. 299, 1719 (2003).
DOI
ScienceOn
|
11 |
J. Li, J. Wang, M. Wutting, R. Ramesh, N. Wang, B. Ruette, A. P. Pyatakov, A. K. Zvezdin, and D. Viehland, Appl. Phys. Lett. 84, 5261 (2004).
DOI
|
12 |
J. K. Kim, S. S. Kim, W. J. Kim, A. S. Bhalla, and R. Guo, Appl. Phys. Lett. 88, 222903 (2005).
|
13 |
F. Z. Huang, X. M. Lu, W. W. Lin, W. Cai, X. M. Wu, Y. Kan, H. Sang, and J. S. Zhu, Appl. Phys. Lett. 90, 252903 (2007).
DOI
ScienceOn
|
14 |
L. Hongri, S. Yuxia, and W. Xiuzhang, J. Phys. D. 41, 095302 (2008).
DOI
|
15 |
Y. P. Wang, L. Zhou, M. F. Zhang, X. Y. Chen, J. M. liu, and X. G. Liu, Appl. Phys. Lett. 84, 1731 (2004).
DOI
|
16 |
D. Lee, M. G. Kim, S. Ryu, H. M. Jang, and S. G. Lee, Appl. Phys. Lett. 86, 222903 (2005).
DOI
|
17 |
J. G. Wu, G. Q. Kang, H. J. Liu, and J. Wang, Appl. Phys. Lett. 94, 172906 (2009).
DOI
|
18 |
M. M. Kumar, A. Srinivas, and S. V. Suryanarayana, J. Appl. Phys. 87, 855 (2000).
DOI
|
19 |
J. O. Cha, J. S. Ahn, and K. B. Lee, J. Korean Phys. Soc. 54, 844 (2009).
DOI
|