| 1 |
E. Nasser, Fundamentals of Gaseous Ionization and Plasma Electronics, (Wiley and Sons, New York, 1971) Chap. 8 and the references therein
|
| 2 |
H. S. Uhm, Phys. Plasmas 6, 4366 (1999)
DOI
|
| 3 |
H. S. Uhm, E. H. Choi, and G. Cho, Jpn. J. Appl. Phys. 40, 3429 (2001)
DOI
|
| 4 |
H. S. Uhm, E. H. Choi, and J. Y. Lim, Appl. Phys. Lett. 80, 737 (2002)
DOI
ScienceOn
|
| 5 |
H. S. Uhm, E. H. Choi, and K. B. Jung, J. Kor. Phys. Soc. 47, 242 (2005)
|
| 6 |
엄환섭, 홍용철, 강호준, KR Patent 0454085 (2004)
|
| 7 |
홍용철, 엄환섭, KR 0375423 (2003)
|
| 8 |
K. K. Wintenberg, D. M. Sherman, P. P.-Y. Tsai, R. B. Gadri, F. Karakaya, Z. Chen, J. R. Roth, and T. C. Montie, IEEE Trans. Plasma Sci. 28, 64 (2000)
DOI
ScienceOn
|
| 9 |
B. M. Penetrante, M. C. Hsiao, B. T. Merritt, G. E. Vogtlin, A. Kuthi, C. P. Burkhart, and J. R. Bayless, J. Adv. Oxid. Technol. 2, 299 (1997)
|
| 10 |
N. Hayashi, H. Suganuma, M. Kamatani, S. Satoh, and C. Yamabe, Jpn. J. Appl. Phys. 40, 6104 (2001)
DOI
|
| 11 |
Han S. Uhm and Yong C. Hong, US Patent Pending (2004)
|
| 12 |
H. S. Kim, J. H. Kim, B. K. Kang, and H. S. Uhm, Langmuir 21, 12213 (2005)
DOI
ScienceOn
|
| 13 |
H. S. Uhm, J. G. Kang, H. Y. Lee, and H. S. Kim, Kor. Patent Application #10-2004-0048602 (2004)
|
| 14 |
Han S. Uhm, US 5, 830, 328 (1998)
|
| 15 |
M. Laroussi, I. Alexeff, and W. L. Kang, IEEE Trans. Plasma Sci. 28, 184 (2000)
DOI
ScienceOn
|
| 16 |
H. S. Uhm and W. M. Lee, Phys. Plasmas 4, 3117 (1997)
|
| 17 |
홍용철, 엄환섭, 이수창, KR 0394994 (2003)
|
| 18 |
J. G. Brimingham and D. J. Hammerstrom, IEEE Trans. Plasma Sci. 28, 51 (2000)
DOI
ScienceOn
|
| 19 |
K. Hadidi and P. Woskov, US 6, 362, 449 (2002)
|
| 20 |
B. M. Penetrante, M. C. Hsiao, J. N. Bardsley, B. T. Merritt, G. E. Vogtlin, A. Kuthi, C. P. Burkhart, and J. R. Bayless, Plasma Sources Sci. Technol. 6, 251 (1997)
DOI
ScienceOn
|
| 21 |
M. J. Sessler, H. D. Becker, I. Flesch, and K. E. Grund, Cancer Res. Clin Oncol 121, 235 (1995)
DOI
ScienceOn
|
| 22 |
H. J. Kim and S. H. Hong, IEEE Trans. Plasma Science 23, 852 (1995)
DOI
ScienceOn
|
| 23 |
신동훈, 홍용철, 엄환섭, KR Patent Pending #10-2006-0016066 (2006)
|
| 24 |
Y. C. Hong and H. S. Uhm, Phys. Plasmas 12, 053504 (2005)
DOI
ScienceOn
|
| 25 |
H. S. Uhm and J. G. Kang, U. S. Patent Application # 10/365, 404 (2003)
|
| 26 |
Y. C. Hong, H. S. Joe, C. U. Bang, D. H. Shin, J. H. Kim, H. S. Uhm, and W. J. Yi, A. P. L. in press (2006)
|
| 27 |
Yong C. Hong and Han S. Uhm, Phys. Plasmas, 10, 3410 (2003)
DOI
ScienceOn
|
| 28 |
Han S. Uhm and Yong C. Hong, US Patent #6, 806, 439 (2004)
|
| 29 |
엄환섭, 홍용철, KR Patent 0554712 (2006)
|
| 30 |
H. S. Uhm, E. H. Choi, and G. S. Cho, Appl. Phys. Lett. 78, 592 (2001)
DOI
ScienceOn
|
| 31 |
신동훈, 홍용철, 엄환섭, Korean Patent Pending, 출원번호: 10-2006-0024179 (2006)
|
| 32 |
H. S. Uhm, Phys. Plasma 7, 4770 (2000)
DOI
ScienceOn
|
| 33 |
H. S. Uhm, E. H. Choi, S. S. Kim, and K. W. Whang, Phys. Plasma 9, 706 (2002)
DOI
ScienceOn
|
| 34 |
B. L. Qin, G. V. Barbosa-Canovas, B. G. Swanson, P. D. Pedrow, and R. G. Olsen, IEEE Trans. Ind. Appl. 34, 43 (1998)
|
| 35 |
Y. C. Hong, C. W. Bang, D. H. Shin, and H. S. Uhm, Chem. Phys. Lett. 413, 454 (2005)
DOI
|
| 36 |
Y. C. Hong, J. H. Kim, C. W. Bang, and H. S. Uhm, Phys. Plasmas 12, 11401 (2005)
|
| 37 |
L. Rosocha, in plasma Science and the Environment (W. Manheimer, L. Sugiqama, and T. Stix, Eds. New York ; AIP Press, 1997)
|
| 38 |
H. S. Uhm, J. Kor. Phys. Soc. 38, L295 (2001)
|
| 39 |
H. S. Uhm and W. M. Lee, Phys. Lett. A 234, 372 (1997)
DOI
ScienceOn
|
| 40 |
Han S. Uhm and Sang H. Hong, Combust. Sci. and Tech. 152, 147 (2000)
DOI
ScienceOn
|
| 41 |
H. S. Uhm, E. H. Choi, G. Cho, and K. W. Whang, Jpn. J. Appl. Phys. 40, L295 (2001)
DOI
|
| 42 |
D. H. Shin, Y. C. Hong, and H. S. Uhm, J. Amer. Ceramic Society 88, 2736 (2005)
DOI
ScienceOn
|
| 43 |
Yong C. Hong, Jeong H. Kim, and Han S. Uhm, Phys. Plasmas 11, 830 (2004)
DOI
ScienceOn
|
| 44 |
D. H. Shin, Y. C. Hong, and H. S. Uhm, Submitted for publication to a journal (2006)
|
| 45 |
H. S. Uhm, Phys. Plasmas 7, 4748 (2000)
|
| 46 |
H. S. Uhm, Phys. Plasmas 6, 623 (1999)
DOI
ScienceOn
|
| 47 |
H. S. Uhm, E. H. Choi, and K. B. Jung, Phys. Plasma 12, 033507 (2005)
DOI
ScienceOn
|
| 48 |
H. Y.Lee, H. S. Uhm, H. N. Choi, Y. J. Jung, B. K. Kang, and H. C. Yoo, J. Kor. Phys. Soc. 42, S880, (2003)
|
| 49 |
Han S. Uhm, Yong C. Hong, and Ho J. Kang, US 6, 362, 449 (2003)
|
| 50 |
H. W. Herrmann, I. Henins, J. Park, and G. S. Selwyn, Phys. Plasmas 6, 2284 (1999)
DOI
ScienceOn
|
| 51 |
J. H. Kim, Y. C. Hong, H. S. Kim, and H. S. Uhm, J. Korean Phys. Soc. 42, S876 (2003)
|
| 52 |
Yong C. Hong, Hyoung S. Kim, Han S. Uhm, Moon J. Kim, Sun H. Han, Sun C. Ko, and Sang K. Park, IEEE Trans. on Plasma Science 33, 958 (2005)
DOI
ScienceOn
|
| 53 |
Karyn M. Green, M. Cristina Borras, Paul P. Woskov, IEEE Trans. Plasma Sci. 29, 399 (2001)
DOI
ScienceOn
|
| 54 |
Shou-Zhe Li, Yong C. Hong, Han S. Uhm, and Zhe-Kui Li, Jpn. J. Appl. Phys. 43, 7714 (2004)
DOI
|
| 55 |
K. H. Han, J. G. Kang, and H. S. Uhm, Submitted
|
| 56 |
J. G. Kang and H. S. Uhm, Korean Patent # 0545569 (2006)
|
webmaster
