| 1 |
G. Gaudin, F. Cayrel, C. Bongiorno, R. Jerisian, C. Dubois, V. Raineri, and D. Alquier, Mater. Sci. Eng. B 125, 266 (2005)
DOI
|
| 2 |
Rong Sun, T. Xu, and Qun-ji Xue, Appl. Surf. Sci. 249, 386 (2005)
DOI
ScienceOn
|
| 3 |
G. N. A. van Veen, F. H. M. Sanders, J. Dieleman, A. van Veen, D. J. Oostra, and A. E. de Vries, Phys. Rev. Lett. 57, 739 (1986)
DOI
ScienceOn
|
| 4 |
T. S. Takaoka, T. Seki, K. Tsumura, and J. Matsuo, Thin Solid Films 405, 141 (2002)
DOI
|
| 5 |
A. Takashima, H. Hirayama, and K. Takayanagi, Phys. Rev. B 57, 7292 (1998)
DOI
ScienceOn
|
| 6 |
H. Feil, H. J. W. Zandvliet, M.-H. Tsai, J. D. Dow, and I. S. T. Tsong, Phys. Rev. Lett. 69, 3076 (1992)
DOI
ScienceOn
|
| 7 |
E. Oliviero, M.L. David, M. F. Beaufort, and J. F. Barbot, Appl. Phys. Lett. 81, 4201 (2002)
DOI
ScienceOn
|
| 8 |
S. Godey, E. Ntsoenzok, T. Sauvage, A. van Veen, F. Labohm, M. F. Beaufort, and J.F. Barbot, Mater. Sci. Eng. B 73, 54 (2000)
DOI
ScienceOn
|
| 9 |
F. Corni, C. Nobili, G. Ottaviani, R. Tonini, G. Calzolari, G. F. Cerofolini, and G. Queirolo, Phys. Rev. B 56, 7331 (1997)
DOI
|
| 10 |
M. R. Tesauro, Ion-Surface Interactions Relevant To Semiconductor Plasma Processing (Ph. D. Thesis, Univ. of Texas, Austin, USA, 1995)
|
| 11 |
P. Bedrossian and E. Kaxiras, Phys. Rev. Lett. 70, 2589 (1993)
DOI
ScienceOn
|
| 12 |
S. Peripolli, E. Oliviero, P. F. P. Fichtner, M. Z. Z. Vasconcellos, and L. Amaral, Nucl. Instrum. Meth. B 242, 494 (2006)
DOI
ScienceOn
|
| 13 |
K. Kyuno, D. G. Cahill, R. S. Averback, J. Tarus, and K. Nordlund, Phys. Rev. Lett. 83, 4788 (1999)
DOI
|
| 14 |
X. Q. Feng and Y. Huang, Int. J. Solids Struct. 41, 4299 (2004)
DOI
ScienceOn
|
| 15 |
G. F. Cerofolini, Phys. Rev. B 61, 10183 (2000)
DOI
ScienceOn
|
| 16 |
J. Y. Maeng, S. H. Kim, S. K. Jo, W. P. Pitts, and J. M. White, Appl. Phys. Lett. 79, 36 (2001)
DOI
ScienceOn
|
| 17 |
S. Hahn, T. Hara, T. Maekawa, N. Satoh, Y.-K. Kwon, K.-I. Kim, Y.-H. Bae, W. J. Chung, E. K. McIntyre, W. L. Smith, L. Larson, and R. Meinecke, Nucl. Instrum. Meth. B 74, 275 (1993)
DOI
|
| 18 |
S. E. Donnelly and J. H. Evans (Eds.), Fundamental Aspects of Inert Gases in Solids (Plenum Press, New York, 1991)
|
| 19 |
C. G. Griffioen, J. H. Evans, P. C. De Jong, and A. van Veen, Nucl. Instrum. Meth. B 27, 417 (1987)
DOI
ScienceOn
|
| 20 |
V. Raineri, M. Saggio, and E. Rimini, J. Mater. Res. 15, 1449 (2000)
DOI
ScienceOn
|
| 21 |
E. Oliviero, S. Peripolli, P. F. P. Fichtner, and L. Amaral, Mater. Sci. Eng. B 112, 111 (2004)
DOI
|
| 22 |
R. M. Feenstra and G. S. Oehrlein, Appl. Phys. Lett. 47, 97 (1985)
DOI
ScienceOn
|
| 23 |
M. V. R. Murty and H. A. Atwater, Phys. Rev. B 45, 1507 (1992)
DOI
|
| 24 |
S. K. Jo, J. H. Kang, X.-M. Yan, J. M. White, J. G. Ekerdt, J. W. Keto, and J. Lee, Phys. Rev. Lett. 85, 2144 (2000)
DOI
ScienceOn
|
| 25 |
T. W. Simpson and I. V. Mitchell, Appl. Phys. Lett. 86, 241907 (2005)
DOI
ScienceOn
|
| 26 |
F. Corni, C. Nobili, R. Tonini, G. Ottaviani, and M. Tonelli, Appl. Phys. Lett. 78, 2870 (2001)
DOI
ScienceOn
|
| 27 |
P. Nguyen, I. Cayfeforsque, K. K. Bourdelle, A. Boussagol, E. Guiot, J. Appl. Phys. 97, 083527 (2005)
DOI
ScienceOn
|
| 28 |
S. Peripolli, E. Oliviero, P. F. P. Fichtner, M. A. Z. Vasconcellos, and L. Amaral, Nucl. Instrum. Meth. B 242, 494 (2006)
DOI
ScienceOn
|
| 29 |
J. Y. Maeng, J. Y. Lee, Y. E. Cho, S. Kim, S. K. Jo, Appl. Phys. Lett. 81, 3555 (2002)
DOI
ScienceOn
|
| 30 |
G. K. Celler and S. Cristoloveanu, J. Appl. Phys. 93, 4955 (2003)
DOI
ScienceOn
|
webmaster
