1 |
A. Barnett, C. H. Choi, and R. Kaspi, Mat. Res. Soc. Symp. Proc., ISBN 1-55899-133-6, 201 (1991)
|
2 |
M. V. R. Murty, H. A. Atwater, A. J. Kellock, and J. E. E. Baglin, Appl. Phys. Lett. 62, 2566 (1993)
DOI
ScienceOn
|
3 |
J. M. E. Harper, J. J. Cuomo, and H. T. G. Hentzell, Appl. Phys. Lett. 43, 547 (1983)
DOI
|
4 |
K. H. Shim, M. C. Paek, K. H. Kim, S. U. Hong, and K. I. Cho, J. Korean Physical Society 34, S350 (1999)
|
5 |
S. U. Hong, M. C. Paek, G. P. Han, Y. J. Sohn, T. Y. Kim, K. I. Cho, K. H. Shim, and S. G. Yoon, Jpn. J. Appl. Phys. 41, 5507 (2002)
DOI
|
6 |
H. Fuji, C. Kisielowski, J. Krueger, M. S. Leung, R. Klockenbrink, M. Rubin, and E. R. Weber, Mat. Res. Soc. Symp. Proc. 449, 227 (1997)
|
7 |
M. S. Shur, R. Gaska, A. Khan, and G. Simin, Devices, Circuits and Systems, Proceedings of the Fourth IEEE International Caracs Conference, D051-1-D051-8 (2002)
|
8 |
A. von Engel, Electric Plasmas: Their Nature and Uses (International Publications Service Taylor & Francis Inc., New York, 1983), p.197
|
9 |
C. Kim, I. K Robinson, J. M. Myoung, K. H. Shim, and K. Kim, J. Appl. Phys. 85, 4040 (1999)
DOI
ScienceOn
|
10 |
S. J Pearton, C. R. Abernathy, B. P. Gila, F. Ren, J. M. Zavada, and S. N. G. Chu, Semiconductor Device Research Symposium, 10-12 Dec. 302 (2003)
|
11 |
H. C. Yang, P. F. Kuo, Y. F. Chen, K. H. Chen, L. C. Chen, Jen-Inn Chyi, Appl. Phys. Lett. 76, 3712 (2000)
DOI
ScienceOn
|
12 |
M. S. H. Leung, R. Klockenbrink, C. Kisielowski, H. Fujii, J. Kruger, G. S. Sudkier , A. Anders, Z. Liliental-Weber, M. Rudin, and E.R. Weber, Mater. Res. Soc. Symp. Proc. 449, 221 (1997)
|
13 |
C. J. Tsai, H. A. Atwater, and T. Vreeland, Appl. Phys. Lett. 57, 2305 (1990)
DOI
|