The Characteristics of silicon nitride thin films prepared by atomic layer deposition method using |
김운중
(세종대학교 신소재공학과)
한창희 (한밭대학교 재료공학과) 나사균 (한밭대학교 재료공학과) 이연승 (한밭대학교 정보통신컴퓨터공학부) 이원준 (세종대학교 신소재공학과) |
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