Determination of the work function of the Ni thin films by using system

Ni thin films on the p-InP (In) substrates were grown at room temperature by using the ion beam-assisted deposition. In order to determine the work function of the Ni thin films, the $\gamma$values were measured as functions of the acceleration voltages by using Ne, Ar, $N_2$. and Xe ion sources. The dependences of the values on various gases and on the acceleration voltages of the focused ion beam were obtained to determine the work function of the Ni thin films. The value of the work function of the Ni thin films grown on the p-InP (100) substrate was 5.8 eV ~ 5.85 eV. These results provide important information on the electronic properties of Ni thin films grown on p-InP (100) substrates at room temperature.

장치를 사용한 Ni 박막의 일함수 결정

실온에서 p-InP (100) 위에 이온빔 증착법으로 Ni 박막을 성장하였다. Ni 박막의 이차전자방출계수(${\gamma}$)와 일함수를 결정하기 위하여 Ne, Ar, $N_2$, Xe 이온원을 사용하여 가속전압에 따른 $\gamma$를 측정하였다. 여러 가지 기체와 집속이온빔장치의 가속전압에 따른 $\gamma$결과로부터 Ni 박막의 일함 수를 결정하였다. p-InP (100) 위에 성장한 Ni 박막의 일함수는 5.8 eV ~ 5.85 eV 이었다. 실험을 통하여 얻어진 결과들은 실온에서 p-InP (100) 위에 성장한 Ni 박막의 전자적 성질에 관한 중요한 정보를 제공하고 있다.