The effects of oxygen on selective Si epitaxial growth using disilane ane hydrogen gas in low pressure chemical vapor deposition
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손용훈
(홍익대학교 금속재료공학과)
박성계 (홍익대학교 금속재료공학과) 김상훈 (전자통신연구소) 이웅렬 (인천기능대학 재료과) 남승의 (홍익대학교 금속재료공학과) 김형준 (홍익대학교 금속재료공학과) |
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