1 |
A. K. Kulkarni, K. H. Schulz, T. S. Lim, and M. Khan, Thin Solid Films, 345, 273 (1999).
DOI
ScienceOn
|
2 |
M. Fahland, P. Karlsson, and C. Charton, Thin Solid Films, 392, 334 (2001).
DOI
ScienceOn
|
3 |
Y. Morinaga, K. Sakuragi, N. Fujimura, and T. Ito, J. Cryst. Growth, 174, 691 (1997).
DOI
ScienceOn
|
4 |
M. Yamamoto and T. Namioka, Appl. Opt., 31, 1612 (1992).
DOI
|
5 |
C. Charton and M. Fahland, to be Published in Proceedings of Conference on Plasma and Surface Engineering(PSE) (2000).
|
6 |
K. H. Choi, H. J. Nam, J. A. Jeong, S. W. Cho, and H. K. Kim, Appl. Phys. Lett., 92, 223302 (2008).
DOI
ScienceOn
|
7 |
Y. S. Park, H. K. Park, J. A Jeong, K. H. Choi, S. I. Na, D. Y. Kim, and H. K. Kim, J. Electrochem. Soc., 156, H588 (2009).
DOI
ScienceOn
|
8 |
H. K. Park, J. A. Jeong, Y. S. Park, S. I. Na, D. Y .Kim, and H. K. Kim, Electrochem. Solid-State Lett., 12, H309 (2009).
DOI
ScienceOn
|
9 |
H. K. Park, J. W. Kang, S. I. Na, D. Y. Kim, and H. K. Kim, Sol. Energy Mater. Sol. Cells, 93, 1248 (2009).
DOI
ScienceOn
|