1 |
I. Akasaki and Amano, J. Electrochem Soc., 141, 2266 (1994).
DOI
|
2 |
S. Nakamura, M. Senoh, N. Iwasa, and S. Nagahama, Appl. Phys. Lett., 67, 1868 (1995).
DOI
ScienceOn
|
3 |
H. Sakaki, T. Koide, H. Amamo, and I. Kasaki, Jpn. Appl. Phys., 34, L1429 (1995).
DOI
|
4 |
D. Byum, G. Kim, D. Lim, D. Lee, I. H. Choi, D. Park, and D. W. Kum, Thin Solid Films, 258, 256 (1996).
|
5 |
F. C. Lin, Y. Takao, Y. Shimizu, and M. Egashira, J. An. Ceramic Society, 78, 2301 (1995).
DOI
ScienceOn
|
6 |
M. H. Francombe and S. V. krishnaswamy, J. Vac. Sci. Technol., A8, 1382 (1990).
|
7 |
M. S. Wu. A. Azuma, T. Shiosaki, and Kawavata, Ferroelectrics. Freq. Control, 36, 442 (1989).
DOI
ScienceOn
|
8 |
M. Joseph, H. Tabata, H. Saeki, K. Ueda, and T. Kawai, Physica, B302, 140 (2001).
|
9 |
Y. R. Ryu, S. Zhu, D. C. Look, J. M. Wrobel, H. M. Joeng, and H. W. White, J. Cryst. Growth, 216, 330 (2000).
DOI
ScienceOn
|