1 |
Y. Huang, X. Duan, Y. Cui, and C. M. Lieber, Nano Lett. 2, 101 (2002).
DOI
|
2 |
E. Stern, G. Cheng, E. Ci Mpoiasu, R. Klie, S. Guthrie, J. Kle Mic, I. Kretzsch Mar, E. Steinlauf, D. Turner-eVans, E. Broo Mfield, J. Hyland, R. Koudelka, T. Boone, M. Young, A. Sanders, R. Munden, T. Lee, D. Routenberg and M. A. Reed, Nanotechnology. 16, 2941 (2005).
DOI
|
3 |
F. Qian, Y. Li, S. Gradecak, D. Wang, C. J. Barrelet, and C. M. Lieber, Nano Lett. 4, 1975 (2004)
DOI
|
4 |
D. A. Stocker, E. F. Schubert, J. M. Redwing, Appl. Phys. Lett. 73, 2654 (1998).
DOI
|
5 |
H. Ki M, Mat. Sci. Se Micon. Proc. 13, 51 (2010).
DOI
ScienceOn
|
6 |
P. B. Shah, I. Batyr eV, M. A. Derenge, U. Lee, C. Nyguen, K. A. Jones, J. Vac. Sci. Technol. A. 28, 684 (2010).
DOI
|
7 |
D. Q. Fang, A. L. Rosa, Th. Frauenhei M, R. Q. Zhang, Appl. Phys. Lett. 94, 073116 (2009).
DOI
|
8 |
J. S. Hwang, D. Ahn, S. H. Hong, H. K. Ki M, S. W. Hwang, B.-H. Jeon, J.-H. Choi, Appl. Phys. Lett. 85, 1636 (2004).
DOI
|
9 |
G. T. Ki M, U. Waiz Mann, S. Roth, Appl. Phys. Lett. 79, 3497 (2001).
DOI
|