1 |
B. K. Min, H. Y. Choi, S. H. Lee, and H. S. Tae, J. Vac. Sci. Technol., B19, 7 (2001).
|
2 |
M. J. Kushner, J. Appl. Phys., 57, 2486 (1985).
DOI
|
3 |
J. W. Shon, Ph. D. Thesis, University of Illinois at Urbana-Champaign, Urbana-Champaign (1994).
|
4 |
J. H. Kolts and D. W. Setser, J. Chem. Phys., 68, 4848 (1978).
DOI
|
5 |
Gen. Inoue, J. K. Ku, and D. W. Setser, J. Chem. Phys., 81, 5760 (1984).
DOI
|
6 |
Y. Salamero, A. Birot, J. Galy, and P. Millet, J. Chem. Phys., 80, 4774 (1984).
DOI
|
7 |
T. D. Bonifield, F. H. K. Rambow, G. K. Walters, M. V. McCusker, D. C. Lorents, and R. A. Gutcheck, J. Chem. Phys., 72, 2914 (1980).
DOI
|
8 |
J. Galy, K. Aouame, A. Birot, H. Brunet, and P. Millet, J. Phys., B26, 477 (1993).
|
9 |
H. Horiguchi, R. S. F. Chang, and D. W. Setser, J. Chem. Phys., 75, 1207 (1981).
DOI
|
10 |
G. Thronton, E.D. Poliakoff, E. Matthias, S. H. Southworth, R. A. Rosenburg, M. G. White, and D. A. Shirley, J. Chem. Phys., 71, 133 (1979).
DOI
|
11 |
M. Kurihara and T. Makabe, J. Appl. Phys., 89, 7756 (2001).
DOI
|
12 |
T. Shiga, S. Mikoshiba, and F. L. Curzon, Rev. Sci. Instrum., 69, 3426 (1998).
DOI
|
13 |
Y. M. Li, C. L. Chen, and H. B. Hsu, IEEE Trans. Electron Dev., 50, 913 (2003).
DOI
|
14 |
P. L. G. Ventzek, R. J. Hoekstra, and M. J. Kushner, J. Vac. Sci. Technol., B12, 461 (1994).
|
15 |
W. H. Press, S. A. Teukolsky, W. T. Vetterling, and B. P. Flannery, Numerical Recipes in C (Cambridge University Press, Cambridge, 1992).
|
16 |
D. L. Scharfetter and H. K. Gummel, IEEE Trans. Electron Dev., 16, 64 (1967).
|
17 |
W. L. Morgan, J. P. Boeuf, and L. C. Pitchford, BOLSIG Boltzmann Solver (freeware): www.siglo-kinema.com /bolsig.htm (1996).
|
18 |
T. Holstein, Phys. Rev., 72, 1212 (1947).
DOI
|
19 |
C. K. Yoon, J. H. Seo, and K. W. Whang, IEEE Trans. Plasma Sci., 28, 1029 (2000).
DOI
|
20 |
K. Tachibana, S. Feng, and T. Sakai, J. Appl. Phys., 88, 4967 (2000).
DOI
|
21 |
R. P. Mildren, R. J. Carman, and I. S. Falconer, J. Phys., D34, 3378 (2001).
|
22 |
A. Salabas, G. Gousset, and L. L. Alves, Plasma Sources Sci. Technol., 11, 448 (2002).
DOI
|
23 |
T. Hashimoto and A. Iwata: SID 1999 Int. Symp. Dig. Tech. Papers (Society for Information Display, 1999) p. 540.
|
24 |
L. A. Levin, S. E. Moody, E. L. Klosterman, R. E. Center, and J. J. Ewing, IEEE J. Quantum Electron. 17, 2282 (1981).
DOI
|
25 |
D. J. Eckstrom, H. H. Nakano, D. C. Lorents, T. Rothem, J. A. Betts, M. E. Lainhart, D. A. Dakin, and J. E. Maenchen, J. Appl. Phys., 64, 1679 (1988).
DOI
|
26 |
S. Rauf and M. J. Kushner, J. Appl. Phys., 85, 3460 (1999).
DOI
|
27 |
H. B. Park, S. E. Lee, G. Y. Kim, Y. D. Lee, and K. C. Choi, J. Display Technol., 2, 60 (2006).
DOI
|
28 |
Z. Liu, W. B. Hu, and C. L. Liu, IEEE Trans. Plasma Sci., 38, 2860 (2010).
DOI
|
29 |
H. Kashiwazaki, T. Kajiwara, H. Fujita, and Y. Ohtsu, J. Light & Vis. Env., 34, 10 (2010).
DOI
|
30 |
I. W. Seo, J. C. Jung, B. J. Oh, and K. W. Whang, IEEE Trans. Plasma Sci., 38, 1097 (2010).
DOI
|
31 |
J. Meunier, Ph. Belenguer, and J. P. Boeuf, J. Appl. Phys., 78, 731 (1995).
DOI
|
32 |
J. P. Boeuf, C. Punset, A. Hirech, and H. Doyeux, J. Phys., 7, C4 (1997).
|
33 |
T. Makabe and N. Nakano, Phys. Rev., A45, 2520 (1992).
|
34 |
W. J. Chung, B. J. Shin, T. J. Kim, H. S. Bae, J. H. Seo, and K. W. Whang, IEEE Trans. Plasma Sci., 31, 1038 (2003).
DOI
|
35 |
T. Shiga, L. C. Pitchford, J. P. Boeuf, and S. Mikoshiba, J. Phys., D36, 512 (2003).
|
36 |
H. B. Park, K. Y. Kim, J. H. Hong, Y. J. Lee, H. Hatanaka, Y. M. Kim, and S. J. Im, SID 2002 Int. Symp. Dig. Tech. Papers (Society for Information Display, 2002) p. 1138.
|
37 |
M. Kurihara and T. Makabe, IEEE Trans. Plasma Sci., 27, 1372 (1999).
DOI
|