1 |
Y. Hoshi, H. Kato, and K. Funatsu, 'Structure and electrical properties of ITO thin films deposited at high rate by facing target sputtering', Thin Solid Films, Vol. 445, p. 245, 2003
DOI
ScienceOn
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2 |
K. Ishibashi, K. Hirata, and N. Hosokawa, 'Mass spectrometric ion analysis in the sputtering of oxide targets', Journal of Vacuum Science & Technology A., Vol. 10, Iss. 4, p. 1718, 1992
DOI
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3 |
K. Torninaga, T. Veda, T. Ao, A. Katkoka, and I. Mori, 'ITO films prepared by facing target sputtering system', Thin Solid Films, Vol. 281-282, p. 194, 1996
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4 |
김건희, 금민종, 김한기, 손인환, 장경욱, 이원재, 최형욱, 박용서, 김경환, 'FTS법을 이용한 ITO 박막의 제작', 전기전자재료학회논문지, 17권, 11호, p. 1230, 2004
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5 |
추혜용, 'Flexible OLED 기술 동향', 전기전자재료, 17권, 8호, p. 13, 2004
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6 |
금민종, 김경환, '대향타겟스퍼터링법에 의한 FBAR용 AZO(ZnO:Al) 박막의 제작', 전지전자재료학회논문지, 17권, 4호, p. 442, 2004
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7 |
금민종, 손인환, 최명규, 추순남, 최형욱, 신영화, 김경환, 'FBAR용 ZnO//Si 박막의 결정학적 특성에 관한 연구', 전지전자재료학회논문지, 16권, 8호, p. 711, 2003
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8 |
김경환, 손인환, 금민종, '대향타겟식 스퍼터링에 의한 Co-Cr 박막의 제작', 전지전자재료학회논문지, 11권, 5호, p. 418, 1998
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