Analysis of the Critical Characteristics in the Superconducting Strip Lines by ICP Etching System |
고석철
(전북대학교 전자정보공학부)
강형곤 (전북대학교 기초과학연구) 최효상 (조선대학교 전기공학) 양성채 (전북대학교 전자정보공학) 한병성 (전북대학교 전자정보공학부) |
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Sparameter measurements on single superconducting thin film three-terminal devices made of high-Ts materials
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DOI |
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Conditions of ICP for a superconducting flux flow transistor and its etching characteristics
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A Model and equivalent circuit for a superconducting flux flow transistor
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다채널 고온 초전도 볼텍스 유동 트랜지스터의 I-V 특성 해석
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과학기술학회마을 DOI ScienceOn |
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새로운 ICP 장치를 이용한 고온 초전도체의 Dry Etching과 기존의 Wet Etching 기술과의 비교
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과학기술학회마을 |
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STM/AFM nano-oxidation process to room temperature operated single electron transistor and other devices
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DOI ScienceOn |
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플라즈마 식각을 이용한 초전도 자속 흐름 트랜지스터 제작
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과학기술학회마을 |
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Current-Voltage characterization of the vortex motion in YBa₂Cu₃<TEX>$O_{7-δ}$</TEX> microbridges and implocations on the development of wuperconducting flux flow transistor
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DOI ScienceOn |
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Wet chemical etching of high-temperature superconducting Y-Ba-Cu-O films in ethylenediaminetraacetic acid
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DOI |
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High density plasma etching of Y-Ba-Cu-O superconductors
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DOI ScienceOn |