Preparation of ITO Thin Films by FTS{Facing Targets Sputtering) Method |
Kim, Geon-Hi
(경원대학교 전기정보공학과)
Keum, Min-Jong (경원대학교 전기정보공학과) Kim, Han-Ki (삼성 SDI) Son, In-Hwan (신성대학 디지털전기계열) Jang, Kyung-Wook (경원전문대 자동차과) Lee, Won-Jae (경원전문대 전자정보과) Choi, Hyung-Wook (경원대학교 전기정보공학과) Park, Yong-Seo (경원대학교 전기정보공학과) Kim, Kyung-Hwan (경원대학교 전기정보공학과) |
1 | R. H. Freiend, R. W. Gymer, and A. B. Holmes, 'Electroluminescence in conjugated polymers', Nature 397, p. 121, 1999 DOI ScienceOn |
2 | C. C. Wu, C. I. Wu, and J. C. Sturn, 'Surface modification if indium tin oxide by plasma treatment', A. Kahn, Appl. Lett. 70, p. 1384, 1997 DOI ScienceOn |
3 | K. Zhang, F. Zhu, C. H. A. Huan, and A. T. S. Wee, 'Effect of hydrogen partial pressure on opoelectronic properties of indium tin oxide thin films deposited by radio frequency magnetron sputtering method', J. Appl. Phys. 86, p. 974, 1999 DOI |
4 | J. S. Jung and S. S. Lee, 'Development of indium tin oxide film texture during DC magnetron sputtering deposition', J. Crystal Growth 259, p. 343, 2003 DOI ScienceOn |
5 | Y. Hoshi, H. Kato, and K. Funatsu, 'Structure and electrical properties of ITO thin films deposited at high rate by facing target sputtering', Thin solid films, Vol. 445, p. 245, 2003 DOI ScienceOn |
6 | K. Ishibashi, K. Hirata, N. Hosokawa, 'Mass spectrometric ion analysis in the sputtering of oxide targets', J. Vac. Sci. Technol., Vol. A10 (4), p. 1719, 1992 |
7 | 금민종, 김경환, '대향타켓스퍼터링법에 의한 FBAR용 AZO(ZnO:Al) 박막의 제작' 전기전자재료학회논문지, 17권, 4호, p. 442, 2004 |
8 | 금민종, 손인환, 최명규, 추순남, 최형욱, 신영화, 김경환, 'FBAR용 ZnO/SiO2/Si 박막의 결정학적 특성에 관한 연구', 전기전자재료학회논문지, 16권, 8호, p. 711, 2003 |
9 | 김경환, 손인환, 금민종, '대향타겟식 스퍼터링에 의한 Co-Cr 박막의 제작', 전기전자재료학회논문지, 11권, 5호, p. 418, 1998 |