High Density Inductively Coupled Plasma Etching of III-V Semiconductors in BCI3Ne Chemistry |
백인규
(인제대학교 나노공학과/나노 기술 응용연구소)
임완태 (인제대학교 나노공학과/나노 기술 응용연구소) 이제원 (인제대학교 나노공학과/나노 기술 응용연구소) 조관식 (인제대학교 나노공학과/나노 기술 응용연구소) |
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Investigation of masking materials for high ion density Cl₂/Ar plasma etching of GaAs
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DOI ScienceOn |
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Inductively coupled plasma etch damage in GaAs and InP Schottky diodes
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Cl₂/Ar 유도결합 플라즈마에서 Pt 박막 식각시 N₂가스첨가 효과
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과학기술학회마을 |
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High density plasma etching of compound semiconductors
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Cl₂/CH₄/H₂혼합기체를 이용한 InP 소재의 반응성 이온 에칭에 관한 연구
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Cl₂/H₂플라즈마 조건이 n-GaN 의 식각특성 및 저저항 접촉 형성에 미치는 영향
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Comparison of dry etching technologies for Ⅲ-Ⅴ semiconductors in CH₄/H₂/Ar plasmas
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DOI |
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Reliability investigation of heavily C-doped InGaP/GaAs HBTs operated under a very high current-density condition
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Dry etch damage in inductively coupled plasma exposed GaAs/AlGaAs heterojunction bipolar transistor
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유도결합형 Cl₂계 플라즈마를 이용한 GaN 식각 특성에 관한 연구
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Plasma etching of Ⅲ-Ⅴ semiconductor in BCl₃chemistries: Part Ⅱ: InP and related compounds
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DOI ScienceOn |
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Cl₂/Ar plasma etching of binary, ternary and quaternary In-based compound Semiconductors
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도핑되지 않은 비정질 실리콘의 고밀도 Cl₂/HBr 플라즈마에 의한 식각 시 나칭 효과
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InP and Related Materials
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Plasma etching of Ⅲ-Ⅴ semiconductor in BCl₃chemistries: Part Ⅰ: GaAs and related materials
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Special angel technique with Ar/O₂-RIBE for the fabrication of steep NM-scale profiles in InGaAsP/InP and subsequent epitaxial overgrowth
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ICP에 의한 BCl₃/Cl₂플라즈마 내에서 Pt 박막의 식각 특성
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BCl3 평판형 유도결합 플라즈마를 이용한 GaAs 건식식각
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과학기술학회마을 DOI ScienceOn |
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유도결합형 플라즈마원을 이용한 고선택비 산화막 식각에 관한 연구
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Cylindrical Magnetron을 이용한 실리콘의 반응성 이온 건식식각의 특성에 관한 연구
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BCl₃/O₂/Ar 유도결합 플라즈마를 이용한 InP의 건식 식각에 관한 연구
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유도결합형 Ar/CH₄플라즈마를 이용한 ITO의 식각 특성에 관한 연구
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Advanced selective dry etching of GaAs/AlGaAs in high density inductively coupled plasmas
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High density plasma etching of compound semiconductors
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BCl₃/H₂/Ar 유도결합 플라즈마를 이용한 GaN의 건식 식각에 관한 연구
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