Effect of Mixed Gases on Decomposition Characteristic of CF4 by Non-Thermal Plasma |
박재윤
(경남대학교 전기·전자공학부)
정장근 (경남대학교 전기·전자공학부) 김종석 (경남대학교 전기·전자공학부) 임근희 (한국전기연구원) |
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Decomposition of gaseous organic contaminants by surface discharge induced plasma chemical processing
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DOI ScienceOn |
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Control of volatile organic compounds by an ac energized ferroelectric pellet reactor and a pulsed corona reactor
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DOI ScienceOn |
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CF₄/Ar 플라즈마 내 Cl₂첨가에 의한 SrBi₂ Ta₂O/sub 9/박막의 식각 특성
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과학기술학회마을 |
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Ozone degradation by fluoride onto plasma-treated activated carbon in CF₄
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Plasma-assisted chemical process for NOx control
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DOI ScienceOn |
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펄스 스트리머 방전을 이용한 NOx 제거
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과학기술학회마을 |
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다항근사 볼츠만 방정식에 의한 CF₄분자가스의 전자수송계수 해석
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열플라즈마에 의한 CFC의 분해공정
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과학기술학회마을 |
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e-CF4산란중에서 전자군의 확산계수 및 에너지분포함수 연구
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과학기술학회마을 |
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Decomposition of fluorocarbon gaseous contaminants by surface discharge-induced plasma chemical processing
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DOI ScienceOn |
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Removal of NF₃from semiconductor-process flue gases by tandem packed-bed plasma and adsorbent hybrid systems
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DOI ScienceOn |