The Etching Characteristics of Polyimide Thin Films using CF4O2 Gas Plasma |
강필승
(중앙대학교 전자전기공학부)
김창일 (중앙대학교 전자전기공학부) 김상기 (ETRI 반도체 신기술 연구소) |
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유도 결합 플라즈마를 이용한 YMnO₃박막의 건식 식각 특성 연구
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과학기술학회마을 |
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Dielectric behavior of O₂/CF₄plasma etched polyimide exposed to humid environments
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Polyimide etching in Ar, O₂, and O₂/F₂gas mixtures
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고밀도 플라즈마에 의한 PZT 박막의 식각특성 연구
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Plasma fluorination of polyimide thin films
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CF₄/O₂plasma etching and surface modification of polyimide film
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도핑되지 않은 비정질 실리콘의 고밀도 Cl₂/HBr 플라즈마에 의한 식각 시 나칭 효과
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