A Study on Etch Characteristics of CeO2 Thin Film in An Ar/CF4/Cl2 Plasma |
장윤성
(중앙대학교 전자전기공학부)
김동표 (중앙대학교 전자전기공학부) 김창일 (중앙대학교 전자전기공학부) 장의구 (중앙대학교 전자전기공학부) |
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유도 결합 플라즈마(Cl₂/Ar)를 이용한 CeO₂박막의 식각 특성 연구
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Nonvolatile memory operations of metal ferroelectric insulator semiconductor (MFIS) FET's using PLZT/STO/Si(100) structures
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DOI ScienceOn |
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Etch characteristics of CeO₂thin film as a buffer layer for the application of ferroelectric random access memory
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DOI ScienceOn |
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Characterization of CeO₂thin films as insulator of metal ferroelectric insulator semiconductor (MFIS) structures
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LiNbO₃/AIN 구조를 이용한 MFIS 커패시터의 제작 및 특성
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OES를 이용한 SBT 박막 식각 특성 연구
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과학기술학회마을 |
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Ar/CHF₃플라즈마를 이용한 SBT 박막에 대한 식각 메카니즘 연구
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과학기술학회마을 |
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CP에 의한 BCI₃/CI₂플라즈마 내에서 Pt 박막의 식각 특성
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과학기술학회마을 |