Neural Network Models of Oxide Film Etch Process for Via Contact Formation
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박종문
(한국전자통신연구원 반도체신기술연구소)
권성구 (한국전자통신연구원 반도체신기술연구소) 박건식 (한국전자통신연구원 반도체신기술연구소) 유성욱 (한국전자통신연구원 반도체신기술연구소) 배윤구 (한국전자통신연구원 반도체신기술연구소) 김병환 (세종대학교 전자공학과) 권광호 (한서대학교 전자공학과) |
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The behaviour of perfluoro polyether and other vacuum fluids under ion and electron bombardment
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Reaction of fluorine atoms with SiO₂
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Reactive ion etching using neural networks and simulated annealing
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Two-dimensional implications of a purely reactive model for plasma etching
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An optimal neural network plasma model:a case study
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Using neural networks with a linear output neuron to model plasma etch process
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실리카 도파로 제작을 위한 inductively coupled plasma에 의한 산화막 식각 특성 연구
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과학기술학회마을 |
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An optimal neural network process model for plasma etching
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Statistical experimental design in plasma etch modeling
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유도결합 플라즈마에 의해 식각된 PZT 박막의 식각 Damage 개선
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과학기술학회마을 |
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OES를 이용한 SBT박막의 식각 특성 연구
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과학기술학회마을 |
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Spectroscopic diagnostics of CF₄-O₂plasmas during Si and SiO₂ etching processes
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Etch silicon dioxide with high selectivity and low polymer formation
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Cl₂/O₂가스에 의한 크롬 박막의 직각 특성 고찰
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과학기술학회마을 |
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