Etching Characteristics of Gold Thin films using Inductively Coupled Cl2/Ar Plasma
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장윤성
(중앙대학교 전자전기공학부)
김동표 (중앙대학교 전자전기공학부) 김창일 (중앙대학교 전자전기공학부) 장의구 (중앙대학교 전자전기공학부) 이수재 (한국전자통신연구원 반도체원천기술연구소) |
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ICP에 의한<TEX>$BCl_3/Cl_2$</TEX>플라즈마 내에서 Pt 박막의 식각 특성
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과학기술학회마을 |
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High speed anisotropic reactive ion etching of gold films
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DOI ScienceOn |
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Dry etching characteristics of<TEX>$Pb(Zr,Ti)O_3$</TEX>films in<TEX>$CF_4$</TEX>and<TEX>$Cl_2/CF_4$</TEX>inductively coupled plasmas
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DOI |
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Electron Temperature of inductively coupled<TEX>$Cl_2-Ar$</TEX>plasmas
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DOI ScienceOn |
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Enhancement of reactivity in Au etchin by pulse-time-modulated Cl₂plasma
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DOI |
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Etching of platinum thin films in an inductively coupled plasma
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DOI ScienceOn |
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OES를 이용한 SBT박막의 식각 특성 연구
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과학기술학회마을 |
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유도 결합 플라즈마를 이용한 YMnO₃박막의 건식 식각 특성 연구
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과학기술학회마을 |
9 |
Reactive ion etching of thin gold films
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DOI ScienceOn |
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