1 |
H. N. Dinh, X. Ren, F. H. Garzon, P. Zelenay, and S. Gottesfeld: J. of Electroanal. Chem., 491, 222 (2000)
DOI
ScienceOn
|
2 |
T. Page, R. Johnson, J. Hormes, S. Noding, and B. Rambabu: J. Of Electroanal. Chem., 485, 34 (2000)
DOI
ScienceOn
|
3 |
C. Lamy, A. Lima, V. LeRhun, F. Delime, C. Coutanceau, and J. M.Leger: J. of Power Sources, 105, 283 (2002)
DOI
ScienceOn
|
4 |
X. Ren, M. S. Wilson and S. Gottesfeld.; J. Electrochem. Soc, 143, L12 (1996)
DOI
|
5 |
Xiaoming Ren, Mehlon S. Wilson and Shimshon Gottesfeld: J. Electrochem. Soc., 143, 1 (1996)
DOI
|
6 |
A. G. MacDiarmid and A. J. Epstein; Synth. Met., 69, 85 (1995)
DOI
ScienceOn
|
7 |
E. S. Matveeva and M. J. Gonzalez-Tejera; J. Electrochem. Soc., 47, 1213 (2000)
|
8 |
P. R. Somani and S. Radhakrishnan: Materials Chemistry and Physics, 77, 117 (2002)
|
9 |
K. Bouzek, K. M. Mangold and K. Juttner: Electrochimica Acta, 46,661 (2000)
DOI
ScienceOn
|
10 |
J. H. Kim, B. Y. Kim and B. S. Jung; J. Membrane Science, 5316 (2002)
|
11 |
T. Momma, S. Kakuda, H. Yarimizu, and T. Osaka: J. Electrochem. Soc., 142, 1766 (1995)
DOI
ScienceOn
|
12 |
K. Naoi, M. Lien and W. H. Smyrl: J. Electrochem. Soc., 138, 440 (1991)
DOI
|