1 |
Rosencwaig, A. Photoacoustics and Photoacoustic Spectroscopy; Wiley: New York, 1980.
|
2 |
Smith, W. L.; Rosencwaig, A.; Willenborg, D. L.; Opsal, J.; Taylor, M. W. Solid State Technology 1986, 29, 85.
|
3 |
Vargas, H.; Miranda, L. C. M. In Photoacoustic and Thernal Wave Phenomina in Semiconductors; Mendelis, A., Ed., North-Holland: New York, 1987; p 141.
|
4 |
Vargas, H.; Miranda, L. C. M. Phys. Rep. 1988, 161, 43.
DOI
|
5 |
Mandelis, A., Ed., Progress in Photothermal and Photoacoustic Science and Technology; Elsevier: New York, 1992; Vol. 1.
|
6 |
Marinelli, M.; Zammit, U.; Schudieri, F.; Martellucci, S. Il Nouvo Cimento 1987, 9D, 855.
|
7 |
Pao, Y. Optoacoustic Spectroscopy and Detection; Academic Press: New York, 1977.
|
8 |
Ferreira, S. O.; Ying An, C.; Bandeira, I. N.; Miranda, L. C. M. Phys. Rev. B 1989, 39, 7967.
DOI
|
9 |
Shen, Q.; Kato, Y.; Toyoda, T. Jpn. J. Appl. Phys. 1997, 36, 3297.
DOI
|
10 |
Ghosh, A. K.; Chaudhuri, B. K. J. Appl. Phys. 1996, 80(9), 5292.
DOI
|
11 |
Ghosh, A. K.; Chaudhuri, B. K. J. Appl. Phys. 1996, 79(2), 723.
DOI
|
12 |
Pichardo, J. L.; Marin, E.; Alvarado-Gil, J. J.; Mendoza-Alvarez, J. G.; Cruz-Orea, A.; Delgadillo, I.; Torres-Delgado, G.; Vagas, H. Appl. Phys. A 1997, 65, 69.
|
13 |
Toyoda, T.; Shiozaki, I. Materials Science and Engineering : B 1996, 41, 102.
DOI
|
14 |
Kuwahata, H.; Uehara, F.; Matsumori, T.; Muto, N. Nucl. Instr. and Meth. in Phys. Res. B 1997, 127/128, 459.
DOI
|
15 |
Felici, A. C.; Lama, F.; Piacentini, M.; Papa, T.; Debowska, D.; Kisiel, A.; Rodzik, A. J. Appl. Phys. 1996, 80(12), 6925.
DOI
|
16 |
Zegadi, A.; Al-Saffar, I. S.; Yakushev, M. V.; Tomlinson, R. D. Rev. Sci. Instrum. 1995, 66(8), 4095.
DOI
|
17 |
Ferreira da Silva, A.; Veissid, N.; An, C. Y.; Pope, I.; Barros de Oliveira, N.; Batista da Silva, A. V. Appl. Phys. Lett. 1996, 69(13), 1930.
DOI
|
18 |
Bandeira, I. N.; Closs, H.; Ghizoni, C. C. J. Photoacoustics 1982, 1, 275.
|
19 |
(a) Neto, A. P.; Vargas, H.; Leite, N. F.; Miranda, L. C. M. Phys. Rev. B 1990, 41, 9971.
DOI
|
20 |
(b) Miranda, L. C. M. Appl. Opt. 1982, 21,2923.
|
21 |
Lowney, J. R. J. Appl. Phys. 1986, 60(8), 2854.
DOI
|
22 |
Mikoshiba, N.; Nakamura, H.; Tsubouchi, K. in Proceedings ofthe IEEE Ultrasonics Symposium, San Diego, IEEE, New York,1982; p 580.
|
23 |
Sablikov, V. A.; Sandomirskii, V. B. Phys. Status Solidi 1983, 120, 471.
DOI
|
24 |
Borghs, G.; Ghattacharyya, K.; Deneffe, K.; Van Mieghem, P.;Mertens, R. J. Appl. Phys. 1989, 66(9), 4381.
DOI
|
25 |
Bennett, H. S. J. Appl. Phys. 1986, 60(8), 2866.
DOI
|
26 |
Lim, J. T.; Choi, J. G.; Noh, S. K.; Je, K. C.; Yim, S. Y.; Park, S. H.Jap. J. Appl. Phys. 2007, 46, 7888.
DOI
|
27 |
Sze, S. M. Physics of Semiconductor Devices, 2nd ed.; John Wiley& Sons: New York, 1981; p 851.
|
28 |
Perondi, L. F.; Miranda, L. C. M. J. Appl. Phys. 1987, 62, 2955.
DOI
|
29 |
Bugajski, M.; Lewandowski, W. J. Appl. Phys. 1985, 57, 521.
DOI
|
30 |
Toyoda, T.; Shinoyama, K. Jpn. J. Appl. Phys. 1997, 36, 3300.
DOI
|
31 |
Van Mieghem, P.; Mertens, R. P.; Borghs, G.; Van Overstraeten, R.J. Phys. Rev. B 1990, 41, 5952.
DOI
|