1 |
I. Dhanya and B Savi, "A study on the thermodynamics of gran growth in R.F magnetron sputtered NiO thin films," J. Coatings, Vol. 2013, pp. 1-6, 2013.
|
2 |
E. Fujii, A. Tomozawa, H. Torii and R. Takayama, "Preferred orientations of NiO films prepared by plasmaenhanced metalorganic chemical vapor deposition", Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 35, pp. L328-L330, 1996.
DOI
|
3 |
H. Sato, T. Minami, S. Takata and T. Yamada, Thin Solid Films, Vol. 236, pp. 27, 1993.
DOI
ScienceOn
|
4 |
S. Yamada, T. Yoshioka, M. Miyashita, K. Urabe and M. Kitao, J. Appl. Phys., Vol. 63, pp. 2116, 1988.
DOI
|
5 |
K. Yoshimura, T. Miki and S. Tanemura, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 34, pp. 2440, 1995.
DOI
|
6 |
H. Kumagai, M. Matsumoto, K. Toyoda and M. Obara, J. Mater. Sci. Lett., Vol. 15, pp. 2081, 1996.
|
7 |
H. W. Ryu, G. P. Choi, W. S. Lee and J. J. Park, J. Mater. Sci. Lett., Vol. 39, pp. 4375, 2004.
DOI
|
8 |
H. L. Chen, Y. M. Lu, W. S. Hwang, Surface & Coatings Technology, Vol. 198, pp. 138, 2005.
DOI
ScienceOn
|
9 |
A. M. Reddy, A. S. Reddy, K. S. Lee and P. S. Reddy, Ceramics International, Vol. 37, pp. 2837, 2011.
DOI
ScienceOn
|
10 |
E. Fujii, A. Tomozawa, S. Fujii, H. Torii, M. Hattore and R. Takayama, Jpn. J. Appl. Phys., Vol. 32, pp. L1448, 1993.
DOI
|
11 |
O. Kohmoto, H. Makagawa, F. Ono and A. Chayahara, J. Magn. & Magn. Mater., Vol. 226-230, pp. 1627, 2001.
DOI
|
12 |
Y. M. Lu, W. S. Hwang and J. S. Yang, Surf. Coat. Technol., Vol. 155, pp. 231, 2002.
DOI
|
13 |
Y. M. Lu, W. S. Hwang, W. Y. Liu, J. S. Yang, Thin Solid Films, Vol. 54, pp. 420-421, 2002.
|
14 |
I. Hotovy, J. Huran, L. Spiess, J. Liday, H. Sitter and S. Hascyk, Vacuum, vol. 69, pp. 237, 2003.
|
15 |
H. L. Chen and Y. S. Yang, Thin Solid Films, Vol. 516, pp. 5590, 2008.
DOI
ScienceOn
|
16 |
W. L. Jang, Y. M. Lu, W. S. Hwang, T. L. Hsiung and H. P. Wang, Surf. Coat. Technol., Vol. 202, pp. 5444, 2008.
DOI
|
17 |
B. Abbey, J. D. Lipp, Z. H. Barber and T. Rayment, J. Appl. Phys., Vol. 99, pp. 124914, 2006.
DOI
|
18 |
H. L. Chen, Y. M. Lu and W. S. Hwang, Mater. Trans., JIM 46, pp. 872, 2005.
DOI
|
19 |
W. Brucker, R. Kaltofen, J. Thomas, M. Hecker, M. Uhlemann, S. Oswald, D. Elefant and C. M. Schneider, J. Appl. Phys. Vol. 94, pp. 4853, 2003.
DOI
|
20 |
K. J. Patel, M. S. Desai, C. J. Panchal and B. Rehani, J. Nano. Electron. Phys., Vol. 3, pp. 376. 2011.
|
21 |
T. Y. Kuo, S. C. Chen, W. C. Peng, Y. C. Lin and H. C. Lin, Thin Solid Films, Vol. 519, pp. 4940, 2011.
DOI
|
22 |
H. L. Chen, Y. M. Lu, J. Y. Wu and W. S. Hwang, Mater. Trans., JIM 46, pp. 2530, 2005.
DOI
ScienceOn
|
23 |
Y. S. Jung and S. S. Lee, J. Crystal Growth Vol. 259, pp 343, 2003.
DOI
|
24 |
S. Nandy, B. Saha, M. K. Mitra, K. K. Chattopadhyay, J. Mater. Sci., Vol. 42, pp. 5766, 2007.
DOI
|
25 |
S. C. Chen, T. Y. Kuo, T. H. Sun, Surface & Coatings Technology, Vol. 205, pp. S236, 2010.
DOI
|