1 |
C. R. G. Furtado, J. L. Lebalnce, and R C. R. Nunes, Eur. Polym. J., 36, 1717, (2000)
|
2 |
S. Bandyopadhyay, P. P. De, D. K. Tripathy, and S. K. De, Polymer, 37, 353 (1996)
|
3 |
B. Champman, 'Glow Discharge Processes', John Wiley & Sons, New York, (1980)
|
4 |
A. Grill, 'Cold Plasma in Materials Fabrication: From Fundamentals to Applications', IEEE; ISBN: 0708347145, (1994)
|
5 |
L. E. Cascarini De Torre, E. J. Bottani, A. Martinez-Alonso, A. Cuesta, A. B. Garcia, and J. M. D. Tascon, Carbon, 36, 277 (1998)
|
6 |
S. J. Park and J. S. Kim, Carbon.; 39, 2011 (2001)
|
7 |
A. A. Griffith, Phil. Trans. R. Soc. London, A. 221, 163 (1920)
|
8 |
B. R. Ware and W. H Flygare, J. Colloid Interface Sci., 39, 670 (1972)
|
9 |
J. B. Donnet, W. D. Wang, and A. Vidal, Carbon, 32, 199 (1994)
|
10 |
H. P. Boehm, Adv. Catal., 16, 179 (1966)
|
11 |
C. A. Frysz and D. D. L. Chung, Carbon, 35, 1111 (1997)
|
12 |
X. Li, and K. Horita, Carbon, 38, 133 (2000)
|
13 |
M. Nakahara, K. Ozawa, and Y. Sanada, J. Mater. Sci., 29, 1646 (1994)
|
14 |
M. E. Semaan, L. Nikiel, and C. A. Quarles, Carbon, 39, 1379 (2001)
|
15 |
S. J. Park and J. S. Kim, J. Colloid Interface Sci., 232, 311 (2000)
|
16 |
S. J. Park and J. S. Kim, J. Colloid Interface Sci., 244, 336 (2001)
|
17 |
J. H. Lin, H. W. Chen, K. T. Wang, and F. H. Liaw, J. Mater. Chem., 8, 2169 (1998)
|
18 |
T. Takada, M. Nakahara, H. Kumagai, and Y. Sanada, Carbon, 34, 1087 (1996)
|
19 |
J.M. Pena, N. S. Allen, M. Edge, C. M. Liauw, S. R. Hoon, B. Valange, and R. I. Cherry, Polym. Degrad. Stab., 71, 153 (2000)
|
20 |
S. J. Park and J. S. Kim, J. Colloid Interface Sci., 232, 311 (2000)
|
21 |
M. A. Lopes, F. J. Monteiro, J. D. Santos, A. P. Serro, and B. Saramago, J. Biomed. Mater. Res., 45, 370 (1999)
|