1 |
A. N. Bhoj and M. J. Kushner, J. Phys. D: Appl. Phys. 39, 1594 (2006).
DOI
ScienceOn
|
2 |
R. Dorai and M. J. Kushner, J. Phys. D: Appl. Phys. 36, 666 (2003).
DOI
|
3 |
H. W. Lee, G. Y. Park, Y. S. Seo, Y. H. Im, S. B. Shim, and H. J. Lee, J. Phys. D: Appl. Phys. 44, 053001 (2001).
|
4 |
M. Laroussi, IEEE Trans. Plasma Sci. 24, 1188 (1996).
DOI
ScienceOn
|
5 |
N. Hayashi N, S. Tsutsui, T. Tomari and W. Guan, IEEE Trans. Plasma Sci. 36, 1302 (2008).
DOI
ScienceOn
|
6 |
F. Iza, G. J. Kim, S. M. Lee, J. K. Lee, J. L. Walsh, Y. T. Zhang, and M. G. Kong, Plasma Process. Polym. 5, 322 (2008).
DOI
ScienceOn
|
7 |
H. J. Lee, C. H. Shon, Y. S. Kim, S. Kim, G. C. Kim, and M. G. Kong, New J. Phys. 11, 115026 (2009).
DOI
ScienceOn
|
8 |
M. Laroussi and X. Lu, Appl. Phys. Lett. 87, 113902 (2005).
DOI
ScienceOn
|
9 |
R. E. J. Sladek, E. Stoffels, R. Walraven, P. J. A. Tielbeek, and R. A. Koolhoven, IEEE Trans. Plasma Sci. 32, 1540 (2004).
DOI
ScienceOn
|
10 |
E. Stoffels, I. E. Kieft, R. E. J. Sladek, L. J. M. van den Bedem, E. P. van der Laan, and M. Steinbuch, Plasma Sources Sci. Technol. 15, S169 (2006).
DOI
ScienceOn
|
11 |
E. Stoffels, I. E. Kieft, and R. E. J. Sladek, J. Phys. D: Appl. Phys. 36, 2908 (2003).
DOI
ScienceOn
|
12 |
G. Fridman, M. Peddinghaus, H. Ayan, A. Fridman, M. Balasubramanian, A. Gutsol, A. Brooks, and G. Friedman, Plasma Chem. Plasma Process. 26, 425 (2006).
DOI
ScienceOn
|
13 |
S. U. Kalghatgi, G. Fridman, M. Cooper, G. Nagaraj, M. Peddinghaus, M. Balasubramanian, V. N. Vasilets, A. F. Gutsol, A. Fridman and G. Friedman, IEEE Trans. Plasma Sci. 35, 1559 (2007).
DOI
ScienceOn
|
14 |
E. E. Kunhardt, IEEE Trans. Plasma Sci. 28, 189 (2000).
DOI
ScienceOn
|
15 |
G. Fridman, G. Friedman, A. Gutsol, A. B. Shekhter, V. N. Vasilets, and A. Fridman, Plasma Process. Polym. 5, 503 (2008).
DOI
ScienceOn
|
16 |
M. G. Kong, G. Kroesen, G. Morfill, T. Nosenko, T. Shimizu, J. van Dijk, and J. L. Zimmermann, New J. Phys. 11,115012 (2009).
DOI
ScienceOn
|
17 |
A. Fridman, A. Chirokov, and A. Gutsol, J. Phys. D: Appl. Phys. 38 R1 (2005).
DOI
ScienceOn
|
18 |
C. D. Pintassilgo, K. Kutasi, and J. Loureiro, Plasma Sources Sci. Technol. 16, S115 (2007).
DOI
|
19 |
J. Raiser and M. J. Zenker, Phys. D: Appl. Phys. 39, 3520 (2006).
DOI
ScienceOn
|
20 |
G. Lloyd, G. Friedman, S. Jafri, G. Schultz, A. Fridman, and K. Harding, Plasma Process. Polym. 7 194 (2010).
DOI
ScienceOn
|
21 |
G. J. Kim, W. Kim, K. T. Kim, and J. K. Lee, Appl. Phys. Lett 96, 021502 (2010).
DOI
ScienceOn
|
22 |
G. Fridman, A. Shereshevsky, M. M. Jost, A. D. Brooks, A. Fridman, A. Gutsol, V. Vasilets, and G. Friedman, Plasma Chem. Plasma Process. 27, 163 (2007).
DOI
ScienceOn
|
23 |
H. C. Kim, F. Iza, S. S. Yang, M. Radmilovic-Radjenovic, and J. K. Lee, J. Phys. D: Appl. Phys. 38, R283 (2005).
DOI
|
24 |
M. J. Kushner, J. Phys. D: Appl. Phys. 42, 194013 (2009).
DOI
|
25 |
C. K. Birdsall and A. B. Langdon, Plasma Physics via Computer Simulation, CRC Press, 2004.
|