1 |
Y. Q. Fu, J. K. Luo, X. Y. Du, A. J. Flewitt, Y. Li, G. H. Markx, A. J. Walton, W.I. Milne Sensors and Actuators B: Chemical 143 606 (2010)
DOI
|
2 |
T. Suntola, Mater. Sci. Rep., 4 261 (1989).
DOI
|
3 |
J. S. Park, W-J. Maeng, H. S. Kim and J-S. Park, Thin Solid Film 520 1679 (2012).
DOI
|
4 |
J-S. Park, H. Kim, and I. D. Kim, J. Electroceram. DOI 10.1007/s10832-013-9858-0 (2013)
|
5 |
Q. Cao and J. A. Rogers, Adv. Mater. 21 29 (2009)
DOI
|
6 |
J-S. Park, J. K. Jeong, H-J. Chung, Y-G. Mo, and H. D. Kim, Appl. Phys. Lett. 92 072104 (2008)
DOI
|
7 |
D. Kang, H. Lim, C. Kim, I. Song, J. Park, Y. Park, and J. G. Chung, Appl. Phys. Lett. 90 192101 (2007)
DOI
|
8 |
S. H. K. Park, M-K. Ryu, H. Oh, C-S. Hwang, J-H. Jeon, S-M. Yoon, JVST B 31 020601 (2013)
|
9 |
S-I. Kim, S. W. Kim, C. J. Kim, and J-S. Park, J. Electrochem. Soc. 158 H115 (2011)
DOI
|
10 |
J. Lee, J-S. Park, Y. S. Pyo, D. B. Lee, E. H. Kim, D. Stryakhilev, T. W. Kim, D. U. Jin, and Y-G. Mo, Appl. Phys. Lett. 95 123502 (2009)
DOI
|
11 |
J. K. Jeong, H. W. Yang, J. H. Jeong, Y-G. Mo, and H. D. Kim, Appl. Phys. Lett. 93 123508 (2008)
DOI
|
12 |
J-S. Park, H. Chae, H. K. Chung, and S. I. Lee, Semicond. Sci. Technol. 26 034001 (2011)
DOI
|
13 |
P. E. Burrows et al. Proc. SPIE 75 4105 (2001)
|
14 |
A. S. Silva Sobrinho, G. Czeremuszkin, M. Latrache, and M. R. Wertheimer, J. Vac. Sci. Technol. A 18 149 (2000)
DOI
|
15 |
A. G. Erlat, B. M. Henry, J. J. Ingram, D. B. Mountain, A. McGuigan, R. P. Howson, C. R. M. Grovenor, G. A. D. Briggs, and Y. Tsukahara, Thin Solid Films 388 78 (2001)
DOI
|
16 |
D-W. Choi, S-J. Kim, J. H. Lee, K-B. Chung, J-S. Park, Curret Applied Physics 12 S19 (2012)
DOI
|
17 |
J. Meyer, P. Gorn, F. Bentram, S. Hamwi, T. Winkler, H-H. Johannes, T. Weimann, P. Hinze, T. Ridel,and W. Kowalsky, Adv. Mater. 21 1845 (2009)
DOI
|
18 |
A. A. Dameron, S. D. Davidson, B. B. Burton, P. F. Carcia, R. S. Mclean, and S. M. George, J. Phys. Chem. C. 112 4573 (2008)
|
19 |
M. Park, S. Oh, H. Kim, D. Jung, D-W. Choi, J-S. Park, Thin Solid Films 546 153 (2013).
DOI
|
20 |
T-H. Jung, J-S. Park, D-H. Kim, Y. Jeong, S-G. Park, and J-D. Kwon, J. Vac. Sci. Technol. A 31 01A124 (2013).
|
21 |
W. J. Maeng, J-W. Lee, J. H. Lee, K-B. Chung, and J-S. Park, J. Phys. D: Appl. Phys. 44 445305 (2011).
DOI
|
22 |
S. C. Gong, J. G. Jang, H. J. Chang, J-S. Park, Synthetic Metals 161 823 (2011).
DOI
|
23 |
W. J. Maeng and J-S. Park, J. Electroceram. DOI 10.1007/s10831-013-9848-2 (2013).
|