Browse > Article

보조 전극을 이용한 고효율 AC PDP  

Choe, Gyeong-Cheol (KAIST 전기및전자공학과)
Lee, Seong-Min (KAIST 전기및전자공학과)
Jang, Cheol (KAIST 전기및전자공학과)
Lee, Seong-Min (KAIST 전기및전자공학과)
Publication Information
Information Display / v.11, no.3, 2010 , pp. 10-22 More about this Journal
Keywords
Citations & Related Records
연도 인용수 순위
  • Reference
1 S. H. Kim, J. H. Mun, and K. C. Choi, IEEE Trans. Plasma Sci. 37, 327 (2009).
2 K. H. Cho, S. -M. Lee, and K. C. Choi, IEEE Trans. Plasma Sci. 35, 1567 (2007).   DOI
3 S. -M. Lee, K. H. Cho, and K. C. Choi, in Proc. IMID, 2007, pp.119-122.
4 H. S. Bae, J. K. Kim, and K. -W. Whang, IEEE Trans.Plasma Sci. 35, 467 (2007).   DOI
5 K. C. Choi, S. -M. Lee, C. S. Choi, and C. Jang, in Proc. IMID , 2008, pp.1543-1546.
6 K. C. Choi, N. H. Shin, S. C. Song, J. H. Lee, and S. D. Park, IEEE Trans. Electron Devices 54, 210 (2007).
7 K. C. Choi, S. T. Lee, N. H. Shin, S. -M. Lee, S. C. Song, J. B. Yun, B. J. Shin, in Proc. IMID, 2007, pp.119-122.
8 T. Akiyama, T. Yamada, M. Kitagawa, and T. Shinoda, in Proc. SID, 2008, pp.378-381.
9 F. Xing, G. Uchida, N. Awaji, H. Kajiyama, and T. Shinoda, in Proc. IDW, 2008, pp.1997-1998.
10 K. C. Choi, N. H. Shin, K. S. Lee, B. J. Shin, and S. -E. Lee , IEEE Trans. Plasma Sci. 34, 385 (2006).   DOI
11 S. -M. Lee, C. S. Choi, S. H. Kim, and K. C. Choi, J. Appl. Phys. 106, 023304 (2009).   DOI   ScienceOn
12 S. -M. Lee, C. S. Choi, C. Jang, and K. C. Choi, IEEE Trans. Electron Devices 57, 215 (2010).   DOI
13 S. M. Lee, C. Jang, K. H. Cho, and K. C. Choi, J. Soc. Inf. Disp. 17, 883 (2009).   DOI   ScienceOn
14 W. J. Chung, J. H. Seo, D. -C. Jeong, and K. -W. Whang, IEEE Trans. Plasma Sci. 31, 1023 (2003).
15 H. S. Bae, W. J. Chung, and K. -W. Whang, J. Appl. Phys. 95, 30 (2004).   DOI   ScienceOn
16 S. -M. Lee, C. S. Choi, K. H. Cho, K. C. Choi, W. -T. Kim, J. R. Lim, Y. -J. Cho, and S. -T. Kim, in Proc. IDW, 2008, pp.1705-1708.
17 K. H. Cho, S. -M. Lee, C. S. Choi, and K. C. Choi, in Proc. SID , 2008, pp.1686-1689.
18 C. S. Choi, S. -M. Lee, K. H. Cho, and K. C. Choi, IEEE Trans. Plasma Sci. 37, 327 (2009).   DOI
19 K. C. Choi, C. Jang, and J. B. Yun, IEEE Trans. Electron Devices 55, 1338 (2008).   DOI
20 Sz Beleznai, G Mihajlik, A Agod, I Maros, R, Juhasz, Zs Nemeth, L Jakab, and P Richter, J. Phys. D 39, 3777 (2006).
21 C. Jang and K. C. Choi, J. Soc. Inf. Disp. 16, 1259 (2008).   DOI
22 S. H. Kim, J. H. Mun, K. C. Choi, and S. -E, Lee, IEEE Trans. Plasma Sci. 35, 650 (2007).   DOI
23 W. J. Chung, B. J. Shin, T. J. Kim, H. S. Bae, J. H. Seo, and K. -W, Whang, IEEE Trans. Plasma Sci. 31, 1038 (2003).   DOI   ScienceOn
24 J. P. Boeuf, J. Phys. D: Appl. Phys. 36, R53-R79 (2003).
25 G. Oversluizen and T. Dekker, IEEE Trans. Plasma Sci. 34, 305 (2006).   DOI
26 J. H. Mun, S. H. Kim, and K. C. Choi, IEEE Trans. Electron Devices 55, 3143 (2008).   DOI