1 |
Y. Ryu, T. Lee, J. A. Lubguban, H. W. White, B. Kim, Y. Park, and C. Youn, Appl. Phys. Lett. 88, 241108 (2006).
DOI
ScienceOn
|
2 |
Z. K. Tang, G. K. L. Wong, P. Yu, M. Kawasaki, A. Ohtomo, H. Koinuma, and Y. Segawa, Appl. Phys. Lett. 72, 3270 (1998).
DOI
ScienceOn
|
3 |
J. Koo, M. Lee, J. Kang, C. Yoon, K. Kim, Y. Jeon, and S. Kim, Semicond. Sci. Technol. 25, 045010 (2010).
DOI
ScienceOn
|
4 |
H. Kim, J. Y. Moon, and H. S. Lee, Electron. Mater. Lett. 7, 59 (2011).
DOI
ScienceOn
|
5 |
X. D. Bai, P. X. Gao, Z. L. Wang, and E. G. Wang, Appl. Phys. Lett. 82, 4806 (2003).
DOI
ScienceOn
|
6 |
Y. J. Xing, Z. H. Xi, Z. Q. Xue. X. D. Zhang, J. H. Song, R. M. Wang, J. Xu. Y. Song, S. L. Zhang, and D. P. Yu, Appl. Phys. Lett. 83, 1689 (2003).
DOI
ScienceOn
|
7 |
B. W. Park, G. C. Yi, M. Kim, and S. J. Pennycook, Adv. Mater. 14, 1841 (2002).
DOI
ScienceOn
|
8 |
J. S. Lee, K. Park, M. I. Kang, I. W. Park, S. W. Kim, W. K. Chom, H. S. Han, and S. Kim, J. Cryst. Growth 254, 423 (2003).
DOI
ScienceOn
|
9 |
Q. X. Zhao, P. Klason, and M. Willander, Appl. Phys. A Mater. Sci. Process. 88, 27 (2007).
DOI
ScienceOn
|
10 |
P. Yang, H. Yan, s. Mao, R. Russo, J. Johnson, R. Saykally, Nathan, Morris, J. Pham, R. He, and H. J. Choi, Adv. Funct. Mater. 12, 323 (2002).
DOI
ScienceOn
|
11 |
Y. Sun, G. M. Fuge, and M. N. R. Ashfold, Chem. Phys. Lett. 396, 21 (2004).
DOI
ScienceOn
|
12 |
J. Wu and S. C. Liu, Adv. Mater. 14, 215 (2002).
DOI
ScienceOn
|
13 |
W. I. Park, D. H. Kim, S. W. Jung, and G. C. Yi, Appl. Phys. Lett. 80, 4232 (2002).
DOI
ScienceOn
|
14 |
B. Liu, and H. C. Zeng, J. Am. Chem. Soc. 125, 4430 (2003).
DOI
ScienceOn
|
15 |
S. S. Kim and B. T. Lee, Thin Solid Films 446, 307 (2004).
DOI
ScienceOn
|
16 |
S. W. Xue, X. T. Zu, L. X. Shao, Z. L. Yuan, W. G. Zheng, X. D. Jiang, and H. Deng, J. Alloy Compd. 458, 569 (2008).
DOI
ScienceOn
|
17 |
Q. Li, K. Cheng, W. Weng, C. Song, P. Du, G. Shen, and G. Han, Nanoscale Res. Lett. 6, 477 (2011).
DOI
ScienceOn
|
18 |
B. Cao and W. Cai, J. Phys. Chem. C 112, 680 (2008).
DOI
ScienceOn
|
19 |
M. Wang, J. Wang, W. Chen, Y. Cui, and L. Wang, Mater. Chem. Phys. 97, 219 (2006).
DOI
ScienceOn
|
20 |
C. H. Ahn, Y. Y. Kim, D. C. Kim, S. K. Mohanta, and H. K. Cho, J. Appl. Phys. 105, 089902 (2009).
DOI
|
21 |
K. H. Kim, K. C. Park, and D. Y. Ma, J. Appl. Phys. 81, 7764 (1997).
DOI
ScienceOn
|
22 |
M. Girtan and G. Folcher, Surf. Coat. Technol. 172, 242 (2003).
DOI
ScienceOn
|
23 |
F. Urbach, Phys. Rev. 92, 1324 (1953).
|