1 |
H. P. Singh and S. S. Sekhon, Electrochim. Acta., 50, 618 (2004)
|
2 |
A. R. Hopkins, R. A. Lipeles, and W. H. Kao, Thin Solid Films, 447, 474 (2004)
DOI
ScienceOn
|
3 |
C. P. Chwang, C. D. Liu, S. W. Huang, D. Y. Chao, and S. N. Lee, Synth. Met., 142, 272 (2004)
|
4 |
E. M. Genies and C. Tsintavis, J. Appl. Electrochem., 195, 109 (1985)
|
5 |
N. Ballav, J. Mater. Sci. Lett., 58, 3257 (2004)
|
6 |
L. Shi, Y. Xiao, and I. Willner, J. Appl. Electrochem., 6, 1057 (2004)
|
7 |
J. H. Hong, J. Korean Ind. Eng. Chem., 15, 417 (2004)
|
8 |
S. J. Park, H. Y. Lee, M. J. Han, and S. K. Hong, J. Colloid Interface Sci., 270, 288 (2004)
DOI
ScienceOn
|
9 |
K. S. Yu, M. S. Lee, J. H. Kim, K. S. Yang, W. J. Lee, Appl. Chem., 5, 28 (2001)
|
10 |
P. S. Smertenko, O. P. Dimitriev, S. Schrader, and L. Brehmer, Synth. Met., 146, 187 (2004)
DOI
ScienceOn
|
11 |
S. J. Park, F. L. Jin, and J. R. Lee, Mater. Sci. Eng. A, 374, 109 (2004)
DOI
ScienceOn
|
12 |
P. M. Grant and I. P. Batra, Synth. Met., 1, 193 (1980)
DOI
ScienceOn
|
13 |
H. Nakano, Y. Tachibana, and S. Kuwabata, Electrochim. Acta., 50, 745 (2004)
DOI
|
14 |
C. D. Doyle, Anal. Chem., 33, 77 (1961)
DOI
|
15 |
S. Y. Oh, K. Akagi, and H. Shirakawa, Synth. Met., 32, 245 (1989)
DOI
ScienceOn
|
16 |
J. Prokes and J. Stejskal, Polytn. Degrad. Stebil., 86, 187 (2004)
DOI
ScienceOn
|
17 |
S. Y. Oh, B. K. Oh, J. W. Choi, H. S. Kim, H. W. Rhee, and W. H. Lee, J. Korean Ind. Eng. Chem., 8, 172 (1997)
|
18 |
K. Kaneto, K. Yoshino, and Y. Inuishi, Solid State Commun., 46 389 (1983)
DOI
ScienceOn
|
19 |
J. Wang, C. O. Too, D. Zhou, and G. G. Wallace., J. Power Sources, 140, 162 (2005)
DOI
ScienceOn
|
20 |
J. Wagner, J. Pielichowski, A. Hinsch, K. Pielichowski, D. Bogdal, M. Pajda, S. S. Kurek, and A. Burczyk, Synth. Met., 146, 159 (2004)
DOI
ScienceOn
|
21 |
J. Li, K. Fang, H. Qiu, S. Li, W. Mao, and Q. Wu, Synth. Met., 145, 191 (2004)
DOI
|
22 |
S. Letaief, P. Aranda, and E. Hitzky, Appl. Clay Sci., 28, 183 (2005)
DOI
ScienceOn
|
23 |
K. Keiji Kanazawa, A. F. Diaz, W. D. Gill, P. M. Grant, and G. B. Kwak, Synth. Met., 1, 329 (1980)
DOI
ScienceOn
|
24 |
A. Drelinkiewicz, J. Stejskal, A. Waksmundzka, and J. W. Sobczak, Synth. Met., 140, 233 (2004)
DOI
|
25 |
J. H. Hong and K. S. Jang, J. Korean Ind. Eng. Chem., 15, 329 (2004)
|
26 |
H. Shirakawa, E. J. Louis, A. G. Macdiarmid, and A. J. Hoeger, J. Chem. Soc. Commun., 19, 578 (1977)
|
27 |
L. H. Dao, M. Leclerc, J. Guay, and J. W. Chevalier, Synth. Met., 29, 377 (1989)
|
28 |
A. G. Macdiarmid and A. J. Epstein, Synth. Met., 69, 85 (1994)
DOI
|
29 |
G. Gustafsson, Y. Cao, G. M. Trevedi, F. Klavetter, N. Colaneri, and A. J. Heeger, Nature, 357, 447 (1992)
|
30 |
J. E. Park, S. G. Park, A. Koukitu, O. Hatozaki, and N. Oyama, Synth. Met., 140, 121 (2004)
DOI
|
31 |
L. Zhang and S. Dong, J. Electroanal. Chem., 568, 189 (2004)
DOI
|