The effect of the ultrasonic wave on the texturisation of the silicon crystal-line solar cell

The presence of ultrasonic wave in the caustic etching process enhances the etching rate and results in finer and more homogeneous textured structure of the crystalline silicon surface. The silicon solar cell textured in the caustic solution at $60^{\circ}C$ with ultrasonic wave gives higher cell performance than the cell textured at $70^{\circ}C$ without ultrasonic wave. This result indicates a strong possibility of lowering the production cost of the silicon solar cell through saving the thermal budget or expensive chemical normally employed in the texturisation of the crystalline silicon.

태양전지용 규소의 texture etching에 미치는 초음파의 영향

결정질 규소를 이용한 태양전지의 제조에 필요한 texture 식각 공정에 초음파를 적용하였다. 이 결과 $60^{\circ}C$에서 초음파를 적용하여 식각된 규소 기판으로 제조된 태양전지의 광전변환효율이 기존의 방식대로 $70^{\circ}C$에서 초음파 없이 식각된 규소 기판으로 제조된 태양전지의 광전변환효율보다 높았다. 이 결과는 규소를 이용한 태양전지의 제조에 필요한 식각공정에서 초음파를 적용하면 공정 온도를 낮출 수 있고 또한 사용되는 고가의 용액을 줄일 수 있어 전체적으로 태양전지의 제조 가격을 낮출 수 있는 가능성을 보여준다.