1 |
K. A. Gesheva, T. A. krisov, U. I. Simkov and G. D. Beshkov, Appl. surf. Sci., 73, 86 (1993).
DOI
|
2 |
R. W. Johnson, A. Hultqvist and S. F. Bent, Mater. Today, 17, 236 (2014).
DOI
|
3 |
J. Hamalainen, M. Ritala, and M. Leskela, Chem. Mater., 26, 786 (2013).
DOI
|
4 |
W.-M. Li, Chem. Vapor Deposition, 19, 82 (2013).
DOI
|
5 |
H. Kim and I. K. Oh, Jpn. J. Appl. Phys., 53, 03DA01 (2014).
DOI
|
6 |
G. Di Giuseppe, J. Robert Selman, J. Electroanal. Chem., 559, 31 (2003).
DOI
|
7 |
K. Yasuda and J. Murota, Jpn. J. Appl. Phys., 22, L615 (1983).
DOI
|
8 |
F. Werfel and E. Minni, J. Phys. C. Solid State Phys., 16, 6091 (1983).
DOI
|
9 |
R. Liu, X. Yu, G. Zhang, S. Zhang, H. Cao, Anne Dolbecq, P. Mialane, B. Keita and L. Zhi, J. Mater. Chem., 1, 11961 (2013).
DOI
|
10 |
L. Liu, W. Zhang, P. Guo, K. Wang, J. Wang, H. Qian, I. Kurash, C. H. Wang, Y. W. Yang, and F. Xu, Phys. Chem. Chem. Phys., 17, 3463 (2015).
DOI
|