1 |
A. Fujishima, X. Zhang and D. A. Tryk, Surf. Sci. Rep., 63, 515 (2008).
DOI
|
2 |
M. R. Hoffmann, S. T. Martin, W. Choi and D. W. Bahnemann, Chem. Rev., 95, 69 (1995).
DOI
|
3 |
M. Anpo and Y. Kubokawa, Res. Chem. Intermed., 8, 105 (1987).
DOI
|
4 |
N. M. Dimitrijevic, Z. V. Saponjic, B. M. Rabatic and T. Rajh. J. Am. Chem. Soc., 127, 1344 (2005).
DOI
|
5 |
T.-H. Kim, S.-W. Lee, G. Gyawali and Y.-H. Jo, Int. J. Appl. Ceram. Technol., 12, 577 (2015).
DOI
|
6 |
G. Liu, L. Wang, H. G. Yang, H. M. Cheng and G. Q. Lu, J. Mater. Chem., 20, 831 (2010).
DOI
|
7 |
A. Di Paola, L. Palmisano, M. Derrigo and V. Augugliaro, J. Phys. Chem. B, 101, 876 (1997).
DOI
|
8 |
K.-Y. Kim, J. Ryu, B.-D. Hahn, J.-J. Choi, W.-H. Yoon, B.-K. Lee, D.-S. Park and C. Park, J. Korean Ceram. Soc., 45, 839 (2008).
DOI
|
9 |
I. G. Jo, C. W, Ji, C. Y. Choi, Y. S. Kim and Y. D. Kim, J. Korean Inst. Surf. Eng., 41, 240 (2008).
DOI
|
10 |
Y. K. Kim, M. Eichler and C.-P. Klages, Surf. Coat. Technol., 171, 321 (2003).
DOI
|
11 |
G. S. Selwyn, H. W. Herrmann, J. Park and I. Henins, Contrib. Plasma Phys., 6, 610 (2001).
|
12 |
T. K. Le, D. Flahaut, H. Martinez, H. K. H. Nguyen and T. K. X. Huynh, Appl. Catal. B, 165, 260 (2015).
DOI
|
13 |
N. M. Jacob, P. Kuruva, G. Madras and T. Thomas, Ind. Eng. Chem. Res., 52, 16384 (2013).
DOI
|
14 |
C.-H. Yi, Y-H. Lee, D. W. Kim and G.-Y. Yeom, Surf. Coat. Technol., 163-164, 723 (2003).
DOI
|
15 |
T. Homola, J. Matousek. V. Medvecka, A. Zahoranova, M. Kormunda, D. Kovacik and M. Cernak, Appl. Surf. Sci., 258, 7135 (2012).
DOI
|