1 |
D. Shin, C. Byun and S. Kim, Kor. J. Mater. Res., 22, 508 (2012) (in Korean).
DOI
ScienceOn
|
2 |
B. D. Cullity, S. R. Stock, Elements of X-ray Diffraction, 3rd ed., p. 88, Prentice Hall, New Jersey (2001).
|
3 |
W. T. Lim and C. H. Lee, Thin Solid Films, 353, 12 (1999).
DOI
ScienceOn
|
4 |
P. R. Guduru, E. Chason and L. B. Freund, J. Mech. Phys. Solid, 51, 2127 (2003).
DOI
ScienceOn
|
5 |
K. Wasa, M. Kitabatake and H. Adachi, Thin Film Materials Technology, p. 72, Springer & William Andrew Publication, New York (2004).
|
6 |
S. S. Lin, J. L. Huang and D. F. Lii, Surf. Coating. Tech., 176, 173 (2004).
DOI
ScienceOn
|
7 |
A. B. Djurisic and Y. H. Leung, Small, 2, 944 (2006).
DOI
ScienceOn
|
8 |
C. X. Wang, G. W. Yang, C. X. Gao, H. W. Liu, Y. H. Han, J. F. Luo and G. T. Zou, Carbon, 42, 317 (2004).
DOI
ScienceOn
|
9 |
T. S. Jeong, C. J. Youn, M. S. Han, J. W. Yang and K. Y. Lim, J. Cryst. Growth, 259, 267 (2003).
DOI
ScienceOn
|
10 |
B. Monemar, P. P. Paskov, G. Pozina, C. Hemmingsson, J. P. Bergman, H. Amano, I. Akasaki, S. Figge, D. Hommel, T. Paskova and A. Usui, Phys. Status Solidi C, 7, 1850 (2010).
DOI
ScienceOn
|
11 |
B. M. Ataev, Ya. I. Alivov, V. A. Nikitenko, M. V. Chukichev, V. V. Mamedov and S. Sh. Makhmudov, J. Optoelectronics and Adv. Mat., 5, 899 (2003).
|
12 |
U. Ozgur, Ya. I. Alivov, C. Liu, A. Teke, M. A. Reshchikov, S. Do an, V. Avrutin, S. j. Choi and H. Morkoc, J. Appl. Phys., 98, 041301 (2005).
DOI
ScienceOn
|
13 |
Y. S. Choi, J. W. Kang, D. K. Hwang and S. J. Park, IEEE. Trans. Electron. Dev., 57, 26 (2010).
DOI
ScienceOn
|
14 |
H. Morko , U. Ozgur, Zinc Oxide : Fundamentals, Materials and Device Technology, p. 246, Wiley-VCH, Weinheim, (2009).
|
15 |
B. Zhao, H. Yang, G. Du, G. Miao, Y. Zhang, Z. Gao, T. Yang, J. Wang, W. Li, Y. Ma, X. Yang, B. Liu, D. Liu and X. Fang, J. Cryst. Growth, 158, 130 (2003).
|
16 |
C. S. Ku, H. Y. Lee, J. M. Huang and C. M. Lin, Mater. Chem. Phys., 120, 236 (2010).
DOI
ScienceOn
|
17 |
J. H. Lim, C. K. Kang, K. K. Kim, I. K. Park, D. K. Hwang and S. J. Park, Adv. Mater., 18, 2720 (2006).
DOI
ScienceOn
|
18 |
Y. I. Alivov, U. Ozgur, S. Do an, D. Jonstone, V. Avrutin, N. Onojima, C. Liu, J. Xie, Q. Fan and H. Morkoc, Appl. Phys. Lett., 86, 241108 (2005).
DOI
ScienceOn
|
19 |
J. B. You, X. W. Zhang, S. G. Zhang, J. X. Wang, Z. G. Yin, H. R. Tan, W. J. Zhang, P. K. Chu, B. Cui, A. M. Wowchak, A. M. Dabiran and P. P. Chow, Appl. Phys. Lett., 96, 201102 (2010).
DOI
ScienceOn
|
20 |
I. S. Jeong, J. H. Kim and S. Im, Appl. Phys. Lett., 83, 2946 (2003).
DOI
ScienceOn
|
21 |
S. P. Chang, C. Y. Lu, S. J. Chang, Y. Z. Chiou, C. L. Hsu, P. Y. Su and T. J. Hsueh, Jpn. J. Appl. Phys., 50, 01AJ05 (2011).
DOI
|