1 |
U. Ozgur, Y. I. Alivov, C. Liu, A. Teke, M. A. Reshchikov, S. Do an, V. Avrutin, S. j. Cho and H. Morkoc, J. Appl. Phys., 98, 041301 (2005).
DOI
ScienceOn
|
2 |
K. Maeda, M. Sato, I. Niikura and T. Fukuda, Semicond. Sci. Technol., 20, S49 (2005).
DOI
ScienceOn
|
3 |
Y. S. Choi, J. W. Kang, D. K. Hwang and S. J. Park, IEEE. Trans. Electron. Dev., 57, 26 (2010).
DOI
ScienceOn
|
4 |
I. S. Jeong, J. H. Kim and S. Im, Appl. Phys. Lett., 83, 2946 (2003).
DOI
ScienceOn
|
5 |
Y. I. Alivov, U. Ozgur, S. Do an, D. Johnstone, V. Avrutin, N. Onojima, C. Liu, J. Xie, Q. Fan and H. Morkoc, Appl. Phys. Lett., 86, 241108 (2005).
DOI
ScienceOn
|
6 |
S. P. Chang, C. Y. Lu, S. J. Chang, Y. Z. Chiou, C. L. Hsu, P. Y. Su and T. J. Hsueh, Jpn. J. Appl. Phys., 50, 01AJ05 (2011).
DOI
|
7 |
Y. Liu, C. R. Gorla, S. Liang, N. Emanetoglu, Y. Lu, H. Shen and M. Wraback, J. Electron. Mater., 29, 69 (2000).
DOI
|
8 |
A. El-Shaer, A. Che Mofor, A. Bakin, M. Kreye and A. Waag, Superlattices Microstruct., 38, 265 (2005).
DOI
ScienceOn
|
9 |
M. K. Wu, Y. T. Shih, W. C. Li, H. C. Chen, M. J. Chen, H. Kuan, J. R. Yang and M. Shiojiri, IEEE. Photon. Tech. Lett., 20, 1772 (2008).
DOI
ScienceOn
|
10 |
M. J. Brett and R. R. Parsons, J. Mater. Sci., 22, 3611 (1987).
DOI
ScienceOn
|
11 |
P. R. Guduru, E. Chason and L. B. Freund, J. Mech. Phys. Solid., 51, 2127 (2003).
DOI
ScienceOn
|
12 |
B. D. Cullity, Elements of X-ray Diffraction, 1st ed., p. 88, Addison-Wesley, MA, USA (1956).
|
13 |
W. T. Lim and C. H. Lee, Thin Solid Films, 353, 12 (1999).
DOI
ScienceOn
|
14 |
K. Wasa, M. Kitabatake and H. Adachi, Thin Film Materials Technology, p. 72, Springer & William Andrew Pub., NY, USA (2004).
|
15 |
A. B. Djuriši and Y. H. Leung, Small, 2, 944 (2006).
DOI
ScienceOn
|