1 |
M. Yoshida, T. Kumauchi, K. Kawakita, N. Ohashi, H. Enimoto, T. Umezawa, N. Yamaoto, I. Asano and Y. Tadaki, Tech. Digest, 41 (1997) DOI : 10.1109/IDEM.1997.649451.
DOI
|
2 |
S. Nag, R. Ramamurthy, W. J. Lei, C. Monteil and M.
Hickey, Solid State Tech., 41(9), 69 (1998).
|
3 |
M. Baklanov, M. Green and K. Maex, Dielectric Films for Advanced Microelectronics, 1st ed., P. 33-71, John Wiley& Sons Ltd, Chichester, England (2007).
|
4 |
J. R. Davis, Jr. A. Rohatgi, R. H. Hopkins, P. D. Blais, P. Rai-Choudhury, J. R. McCormick and H. C. Mollenkopf,
IEEE Trans. Electron Dev., 27, 677 (1980).
DOI
ScienceOn
|
5 |
K. Nagata, D. Kosemura, M. Takei, H. Akamatsu, M.
Hattori, T. Koganezawa, M. Machida, J. Son, I. Hirosawa,
T. Nishita, T. Shiozawa, D. Katayama, Y. Sato, Y. Hirota
and A. Oguta, ECS Trans., 28(2), 347 (2010).
|
6 |
H. C. Floresca, J. G. Wang, M. J. Kim and J. A. Smythe,
Appl. Phys. Lett., 93, 143116 (2008).
DOI
ScienceOn
|
7 |
A. Grill, V. Patel and S. Cohen, Diam. Relat. Mater., 3,
281 (1994).
DOI
ScienceOn
|
8 |
A. Grill and B. S. Meyerson, Synthetic Diamond: Emerging CVD Science and Technology, P. 91-144, ed. K. E. Spear and J. P. Dismukes, John Wiley& Sons, Inc., New York, USA (1994).
|
9 |
A. Grill and D. A. Neumayer, J. Appl. Phys., 94, 6697
(2003).
DOI
ScienceOn
|
10 |
W. Cho, R. Saxena, O. Rodriguez, R. Achanta, J. L.
Plawsky and W. N. Gill, J. Non-Crystalline Solids, 350,
336 (2004).
DOI
ScienceOn
|
11 |
S. H. Shin, S. H. Lee, Y. S. Kim, J. H. Heo, D. I. Bae,
S. H. Hong, S. H. Park, J. W. Lee, J. G. Lee, J. H. Oh,
M. S. Kim, C. H. Cho, T. Y. Chung and K. Kim, J. Kor. Phys. Soc., 43, 887 (2003).
|
12 |
K. K. Kim, C. -G. Hwang and J. G. Lee, IEEE Trans. Electron. Dev., 45, 598 (1998).
DOI
ScienceOn
|
13 |
S. -H. Shin, D. -I. Bae, J. -K. Lee, S. -H. Song, J. -W. Lee,
Y. -S. Chun, G. -T. Jeong and K. Kim, J. Kor. Phys. Soc.,
39, 112 (2001).
|
14 |
T. Hamamoto, S. Sugiura and S. Sawada, Tech. Digest,
915 (1995) DOI : 10.1109/IDEM.1995.499365.
DOI
|
15 |
J. W. Kim, J. J. Hoe, J. H. Ko, J. M. Lee and J. H. Kwak,
in Proceedings of the 15th Korean Conference on Semiconductors(Kangwon, Korea, Feb. 2008) FP2-33.
|
16 |
R. Weis, K. Hummler, H. Akatsu, S. Kudelka, T. Dyer, M.
Seitz, A. Scholz, B. Kim, M. Wise, R. Malik, J. Strane,
Th. Goebel, K. McStay, J. Beintner, N. Arnold, R. Gerber,
B. Liegl, A. Knorr, L. Economikos, A. Simpson, W. Yan,
D. Dobuzinsky, J. Mandelman, L. Nesbit, C. J. Radens, R.
Divakaruni, W. Bergner, G. Bronner, W. Mueller, Tech. Digest, 18.7.1 (2001). DOI : 10.1109/IEDM.2001.979525.
DOI
|
17 |
A. Das, A. Klipp, H-P. Sperlich and R. Nitsche, ECS Trans., 1(11), 117 (2006).
|