1 |
S. M. Sze and J. C. Irvin, Solid State Electron., 11, 599 (1968).
DOI
ScienceOn
|
2 |
N. Toyama, Solid State Electron., 26, 37 (1983).
DOI
ScienceOn
|
3 |
B. H. Cho, J. J. Yun and W. J. Lee, Jpn. J. Appl. Phys., 46(45), L1135 (2007).
DOI
ScienceOn
|
4 |
K. Kondo, T. Yonezawa, D. Mikami, T. Okubo, Y. Taguchi, K. Takahashi and D. P. Barkey, J. Electrochem. Soc., 152(11), H173 (2005).
DOI
ScienceOn
|
5 |
E. Kolawa, J. S. Chen, J. S. Reid, P. J. Pokela and M.-A. Nicolet, J. Appl. Phys. 70(3), 1369 (1991).
DOI
|
6 |
T. Oku, E. Kawakami, M. Uekudo, K. Takahiro, S. Yamaguchi and M. Murakami, Appl. Surf. Sci., 99, 265 (1996).
DOI
ScienceOn
|
7 |
Y. J. Lee, B. S. Suh, S. K. Rha and C. O. Park, Thin Solid Films, 320, 141 (1998).
DOI
ScienceOn
|
8 |
Y. J. Lee, B. S. Suh and C. O. Park, Thin Solid Films, 357, 237 (1999).
DOI
ScienceOn
|
9 |
Y. J. Lee, B. S. Suh, M. S. Kwon and C. O. Park, J. Appl. Phys., 85(3), 1927 (1999).
DOI
ScienceOn
|
10 |
J. -J. You and K. -S. Bae, Kor. J. Mater. Res., 17(9), 463 (2007) (in Korean).
과학기술학회마을
DOI
ScienceOn
|
11 |
J. R. Lloyd, J. Clemens and R. Snede, Microelectron. Reliab., 39, 1595 (1999).
DOI
ScienceOn
|
12 |
T. Nitta, T. Ohmi, T. Hoshi, S. Sakai, K. Sakaibara, S. Imai and T. Shibata, J. Electrochem. Soc., 140, 1131 (1993).
DOI
|
13 |
J. Tao, N. W. Cheung and C. Hu, IEEE Electron Device Lett., 14, 249 (1993).
DOI
ScienceOn
|