1 |
S. Q. Liu, N. J. Wu, and A. Ignativ, Appl. Phys. Lett.
76, 2749 (2000).
DOI
ScienceOn
|
2 |
W. R. Hiatt and T. W. Hickmott, Appl. Phys. Lett. 6,
106 (1965).
DOI
|
3 |
K. L. Chopra, J. Appl. Phys. 36, 184 (1965).
DOI
|
4 |
J. F. Gibbons and W. E. Beadle, Solid-state Electron. 7,
785 (1964).
DOI
ScienceOn
|
5 |
W. W. Zhuang et al, 2002 IEDM Technical Digest.
|
6 |
W. S. Hong, N. C. Park and C. S. Oh, Kor. J. Mater. Res.,
19(6), 337 (2009) (in Korean).
DOI
ScienceOn
|
7 |
Y. Watanabe, J. G. Bednorz, A. Bietsch, Ch. Gerber, D.
Widmer, A. Beck, and S. J. Wind, Appl. Phys. Lett. 78,
3738 (2001).
DOI
ScienceOn
|
8 |
A. Beck, J. G. Bednorz, Ch. Gerber, C. Rossel, and D.
Widmer, Appl. Phys. Lett. 77, 139 (2000).
DOI
ScienceOn
|
9 |
R. R. Das, R. J. Rodriguëz, R. S. Katiyar, and S. B.
Krupanidhi, Appl. Phys. Lett. 78, 2925 (2001).
DOI
ScienceOn
|
10 |
D. B. Chrisey and G. K. Hubler, Pulsed Laser Deposition of Thin Films, p.186, John Wiley & Sons, Inc, (1994).
|
11 |
J. Y. Park and S. S. Kim, Kor. J. Mater. Res., 17(6), 303
(2007).
DOI
ScienceOn
|