1 |
E. Acosta, M. Bisceglia and D. H. Kurlat, Phys. Chem. Liq., 43, 269 (2005)
DOI
ScienceOn
|
2 |
Y. K. Hong, D. H. Eom, S. H. Lee, T. G. Kim, J. G. Park and A. A. Busnaina, J. Electrochem. Soc., 151, G756 (2004)
DOI
ScienceOn
|
3 |
P. B. Zantye, A. Kumar and A. K. Sikder, Mat. Sci. Eng. R., 45, 89 (2004)
DOI
ScienceOn
|
4 |
R. Rosenberg, D. C. Edelstein, C. K. Hu and K. P. Rodbell, Annu. Rev. Mater. Sci., 30, 229 (2000)
DOI
|
5 |
F. Zhang, A. A. Busnaina and G. Ahmadi, J. Electrochem. Soc., 146, 2665 (1999)
DOI
|
6 |
D. Ng, S. Kundu, M. Kulkarni and H. Liang, J. Electrochem. Soc., 155, H64 (2008)
DOI
ScienceOn
|
7 |
S. Kondo, N. Sakuma, Y. Homma and N. Ohashi, Jpn. J. Appl. Phys., 39, 6216 (2000)
DOI
|
8 |
P. L. Chen, J. H. Chen, M. S. Tsai, B. T. Dai and C. F. Yeh, Microelectron. Eng., 75, 352 (2004)
DOI
ScienceOn
|
9 |
G. E. Tiller, T. J. Mueller, M. E. Dockter and W. G. Struve, Anal. Biochem., 141, 262 (1984)
DOI
ScienceOn
|
10 |
A. J. Bard and L. R. Faulkner, Electrochemical Methods: Fundamentals and Applications, 2nd Ed., P. 92, David Harris, John Wiley & Sons, New York, (2001)
|
11 |
D. H. Eom, I. K. Kim, J. H. Han and J. G. Park, J. Electrochem. Soc., 154, D42 (2007)
|
12 |
P. S. Denkova, L. Van Lokeren, I. Verbruggen and R. Willem, J. Phys. Chem. B., 112, 10935 (2008)
DOI
ScienceOn
|
13 |
J. M. Steigerwald, S. P. Murarka, R. J. Gutmann and D. J. Duquette, Mater. Chem. Phys., 41, 217 (1995)
DOI
ScienceOn
|