1 |
Y. J. Kim, Y. T. Kim, H. K. Yang, J. C. Park, J. I. Han, Y. E. Lee and H. J. Kim, J. Vac. Sci. Technol., A15, 1103 (1997)
DOI
ScienceOn
|
2 |
C. R. Aita and R. J. Lad, J. Appl. Phys., 51, 6405 (1980)
DOI
ScienceOn
|
3 |
T. Fukudome, A. Kaminaka, H. Ishiki, R. Saito. S. Yugo and T. Kimura, Nucl. Instr. and Meth. In Phys. Res., B206, 287 (2003)
DOI
ScienceOn
|
4 |
K. Vanheusden, C. H. Seager, W. L. Warren, D. R. Tallant and J. A. Voigt, Appl. Phys. Lett., 68, 403 (1996)
DOI
|
5 |
S. Bachir, K. Azuma, J. Kossanyi, P. Valat and J. C. Ronfard-Haret, J. Lumin., 75, 35 (1997)
DOI
ScienceOn
|
6 |
H. Song and Y. J. Kim, Kor. J. Matrl. Res., 16, 58 (2006)
DOI
|
7 |
J. B. Lounsbury, J. Vac. Sci. Technol., 6, 838 (1969)
DOI
|
8 |
D. C. Reynold, D. C. Look, B. Jogai and H. Marko, Solid State Commun, 101, 643 (1997)
DOI
ScienceOn
|
9 |
D. C. Reynold, D. C. Look, B. Jogai and H. Marko, Solid State Commun., 101, 643 (1997)
DOI
ScienceOn
|
10 |
C. Klingshirin, Phys. Stat. ol., B71, 547 (1975)
DOI
ScienceOn
|
11 |
X. T. Zhang, Y. C. Liu, J. G. Ma, Y. M. Lu, D. Z. Shen, W. Xu, G. Z. Zhong and X. W. Fan, Thin Solid Films, 413, 257 (2002)
DOI
ScienceOn
|
12 |
J. E. Nause, Cermet Inc., III-Vs Rev., 12, 4 (1999)
DOI
ScienceOn
|
13 |
S. Ohnishi, Y. Hirogawa, T. Shiosaki and A. Kawabata, Jpn. J. Appl. Phys.. 17(5), 773 (1978)
DOI
|