1 |
K. Hauffe, Oxidation of Metals, (Plenum Press. New York, 1965), pp. 159
|
2 |
W. H. Lee, H. L. Cho, B. S. Cho, J. Y Kim, Y S. Kim, W. G. Jung, H. Kwon, and J. Y. Lee, J. Vac. Sci. Technol., A18, 6 (2000)
|
3 |
W. H. Lee, B. S. Cho, B. J. Kang, H. J. Yang, and J. G. Lee, Appl. Phys. Lett., 79, 24 (2001)10.1063/1.1383571
DOI
ScienceOn
|
4 |
W. H. Lee, H. J. Yang, PJ. Reucroft, H. S. Soh, J. H. Kim, S. L Woo and J. G. Lee, Thin Solid Films, 392 (2001)
DOI
ScienceOn
|
5 |
W. H. Lee, H. J. Yang, J. Y. Kim and J. G. Lee, J. Korean Phys. Soc., 40, 1 (2002)
|
6 |
H. Sirringhaus, S. D. Theiss, A. Kahn, and S. Wagner, IEEE Electron Device Lett., 18, 388 (1997)
DOI
ScienceOn
|
7 |
W. H. Lee, H. L. Cho, B. S. Cho, J. Y. Kim, W. J. Nam, Y-S. Kim, W. G. Jung, H. Kwon, J. H. Lee, J. G. Lee, P. J. Reucroft, C. M. Lee, and E. G. Lee, Appl. Phys. Lett., 77, 14 (2000)
DOI
ScienceOn
|
8 |
A. Jain, T. T. Kodas and M. J. Hampden-Smith, Thin Solid Films, 269, 51 (1995)
DOI
ScienceOn
|
9 |
S. W. Kwang, H. U. Kim and S. W. Rhee, J. Vac. Sci. Technol., B17, 1 (1999)
|
10 |
R. Liu, C. S. Pai and E. Martinez, Solid State Electr., 43, 1003 (1999)
DOI
ScienceOn
|
11 |
X. W. Lin and D. Pramanlk, Solid State Technology, October, 63 (1998)
|
12 |
W. H. Lee, H. L. Cho, B. S. Cho. J. Y. Kim, Y-S. Kim, W. G. Jung, H. Kwon, J. H. Lee, P. J. Reucroft, C. M. Lee, and J. G. Lee, J. Electrochem. Soc, 147, 8 (2000)
DOI
ScienceOn
|